[发明专利]一种自溶性膏状清创胶及其辐射制备方法

权利要求书

1.一种自溶性清创胶，其特征在于清创胶制备完成后形态为膏状，可挤出，适用于不同深浅程度以及各种不规则形状的伤口或创面；且该清创胶能充分吸收伤口创面渗出液，溶解伤口创面内的坏死细胞、组织及沉积色素。

2.如权利要求1所述的自溶性清创胶，其中所述不同深浅程度尤其是指膜片或贴片不能接触或填充的皮肤较深区域。

3.如权利要求1所述的自溶性清创胶，其所用原料为天然高分子及其衍生物，单独采用或采用多种天然高分子材料进行复合。

4.如权利要求3所述的自溶性清创胶，所述天然高分子及其衍生物，为芦荟多糖、壳聚糖、黄精多糖、凝集素、海藻酸丙二醇酯、羧甲基纤维素钠、明胶、胶原蛋白、卡拉胶、卡波姆。

5.如权利要求1所述的自溶性清创胶，由多种材料复合后其吸水能力显著提高。

6.一种自溶性膏状清创胶的制备方法，其通过对高分子材料进行充分溶解、搅拌、脱泡，然后辐照交联而成，具体包括以下步骤：

所述高分子材料溶液需先进行初混，搅拌速度50-500r/min，搅拌时间30-60min，直至溶解均匀；

溶解均匀的高分子材料溶液需在室温或升温至40℃-90℃，转移至混料机，混料转速50-4000r/min，混料时间30-60min；至均质；

均质后的溶液需进行脱泡，脱泡转速50-3000r/min，脱泡时间10-40min；至无泡；

脱泡后的溶液装进固定容器封口后用γ射线或电子束进行照射，辐照剂量为10-100kGy，剂量率为10-100Gy/min，进行交联与灭菌。

7.如权利要求6所述的自溶性膏状清创胶的制备方法，其中所述高分子材料溶液质量百分浓度为4-30％。

8.如权利要求6所述的自溶性膏状清创胶的制备方法，其中脱泡方式采用离心或真空脱泡中的一种，其中离心脱泡，转速1000-3000r/min，脱泡时间10-20min；真空脱泡转速2000-3000r/min，真空度0.06-0.8Mpa，脱泡时间20-40min。

9.如权利要求6所述的自溶性膏状清创胶的制备方法，其中均质后的溶液流动性判断依据为室温下，装入试管倒置5s不流动。