[发明专利]制造聚酰亚胺基底的方法及制造显示装置的方法有效
申请号: | 201410390615.X | 申请日: | 2014-08-08 |
公开(公告)号: | CN104465334B | 公开(公告)日: | 2019-01-11 |
发明(设计)人: | 哈伊克·哈洽图安;具贤祐;金善浩;金泰雄 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;谭昌驰 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 聚酰亚胺 基底 方法 显示装置 | ||
提供了一种制造聚酰亚胺基底的方法及制造显示装置的方法。将酸溶液提供到玻璃基底,以去除包括在玻璃基底中的第一阳离子,并将包括聚酰胺酸的源溶液提供到玻璃基底。然后,使聚酰胺酸固化,以在玻璃基底上形成聚酰亚胺基底,并将聚酰亚胺基底与玻璃基底分离。
技术领域
本公开涉及一种制造聚酰亚胺基底的方法和一种利用该聚酰亚胺基底制造显示装置的方法,更具体地说,涉及这样一种制造聚酰亚胺基底的方法和一种利用该聚酰亚胺基底制造显示装置的方法,其中,通过制造聚酰亚胺基底的方法在玻璃基底上形成聚酰亚胺基底。
背景技术
在显示装置之中正在发展包括具有柔性性能的柔性基底的柔性显示装置。柔性显示装置可以根据用户的需要而柔性地弯曲,以提高使用时显示装置的可携带性和便利性。柔性基底可包括例如具有薄膜形状的塑料基底和金属基底。具有良好耐热性的聚酰亚胺基底通常被用作塑料基底。
当利用柔性基底制造柔性显示装置时,为了确保柔性基底的平坦性,在诸如玻璃基底的载体基底上设置柔性基底。然后,对柔性基底执行各种制造工艺并且在柔性基底上形成像素。将包括在其上形成的像素的柔性基底与载体基底分离。
发明内容
本发明的示例性实施例提供一种制造聚酰亚胺基底的方法,通过该方法可容易地制造聚酰亚胺基底。
本发明的示例性实施例还提供一种使用聚酰亚胺基底来制造显示装置的方法,通过该方法可容易地制造显示装置。
本发明的示例性实施例提供一种制造聚酰亚胺基底的方法。
将酸溶液提供到玻璃基底,以去除包括在玻璃基底中的第一阳离子,并将包括聚酰胺酸的源溶液提供到玻璃基底。然后,使聚酰胺酸固化,以在玻璃基底上形成聚酰亚胺基底,并将聚酰亚胺基底与玻璃基底分离。
在本发明的示例性实施例中,提供一种制造显示装置的方法。
在玻璃基底上形成聚酰亚胺基底,并在聚酰亚胺基底上形成多个像素。将包括在其上形成的多个像素的聚酰亚胺基底与玻璃基底分离。
如下形成聚酰亚胺基底。将酸溶液提供到玻璃基底,以去除包括在玻璃基底中的第一阳离子,并将包括聚酰胺酸的源溶液提供到玻璃基底。然后,使聚酰胺酸固化。
附图说明
从以下结合附图的详细描述能够更详细地理解本发明的示例性实施例,在附图中:
图1A至图1F是示出根据本发明实施例的制造聚酰亚胺基底的方法的图;
图2A是图1B中的第一部分在执行沥滤工艺之前的放大图;
图2B是图1B中的第一部分在完成沥滤工艺之后的放大图;
图2C是示出在完成沥滤工艺之后包括在玻璃基底中的第一阳离子的数量相对于玻璃基底的深度的曲线图;
图3是图1C中的第二部分的放大图;
图4A和图4B是示出根据本发明实施例的玻璃基底的表面处理的方法的图;
图5A和图5B是示出根据本发明实施例的制造显示装置的方法的图。
具体实施方式
在下文中,将参照附图详细描述本发明的示例性实施例。以下将参照附图更加详细地描述本发明的示例性实施例。然而,本发明的示例性实施例可以以不同的形式来实施并且不应被解释为限制于这里阐述的示例性实施例。在整个说明书中,同样的标号表示同样的元件。而且,在附图中,为了清晰起见,可以扩大层和区域的尺寸及相对尺寸。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造