[发明专利]用于衬底双面图案形成的方法和系统在审

专利信息
申请号: 201410398086.8 申请日: 2006-11-30
公开(公告)号: CN104317161A 公开(公告)日: 2015-01-28
发明(设计)人: B-J·乔伊;S·V·斯利尼瓦森 申请(专利权)人: 分子制模股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 管琦琦
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 衬底 双面 图案 形成 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种用模具组件使衬底形成图案的方法,所述衬底具有第一和第二相反两面,所述方法包括以下步骤:

将所述衬底置于具有空腔的衬底夹具上,所述衬底的所述第一面朝向所述模具组件且所述衬底的所述第二面朝向所述衬底夹具;

用光学检测系统确定所述衬底和所述模具组件之间的第一空间关系,及获得所述第一空间关系以使所述衬底的所述第一面与所述模具组件叠加,所述模具组件和所述衬底的所述第一面使一材料置于它们之间;

用所述模具组件以所述材料在所述衬底的所述第一面形成图案,从而限定第一图案形成层;

用光学检测系统确定所述衬底和所述模具组件之间的第二空间关系,及获得不同于所述第一空间关系的所述第二空间关系以使所述衬底的所述第二面与所述模具组件叠加,所述模具组件和所述衬底的所述第二面使一材料置于它们之间,其中获得所述第二空间关系包括:将所述衬底置于所述衬底夹具上使得所述第一图案形成层在所述衬底夹具的所述空腔内,以最小化在所述衬底的所述第二面形成图案期间对所述第一图案形成层的损坏;以及

用所述模具组件以所述材料在所述衬底的所述第二面上形成图案,从而限定第二图案形成层。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,获得所述第二空间关系的步骤进一步包括翻转所述衬底的步骤。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,获得所述第二空间关系的步骤进一步包括将所述衬底相对所述模具组件翻转180°的步骤。

4.一种使衬底形成图案的方法,所述衬底具有第一和第二相反两面,所述方法包括以下步骤:

将所述衬底置于具有空腔的衬底夹具上,所述衬底的所述第一面朝向第一模具组件且所述衬底的所述第二面朝向所述衬底夹具;

将材料置于所述衬底的所述第一面上;

用光学检测系统确定所述衬底和第一模具组件之间的第一空间关系,及获得所述第一空间关系以使衬底的所述第一面与所述第一模具组件叠加;

用所述第一模具组件以所述材料在所述衬底上的所述第一面上形成图案,从而限定第一图案形成层;

将材料置于所述衬底的所述第二面上;

用光学检测系统确定所述衬底和第二模具组件之间的第二空间关系,及获得不同于所述第一空间关系的所述第二空间关系以使所述衬底的所述第二面与所述第二模具组件叠加;

用所述第二模具组件以所述材料在所述衬底的所述第二面上形成图案,从而限定第二图案形成层;

将所述第二模具组件与所述衬底的所述第二面上的所述材料分离;

将所述衬底夹具置于使其与所述衬底叠加;以及

将所述第一模具组件与所述衬底的所述第一面上的所述材料分离以使得所述衬底置于所述衬底夹具上并且所述衬底的所述第二面上的所述材料置于所述衬底夹具的所述空腔内以最小化对所述衬底的所述第二面上的所述材料的损坏。

5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,以所述材料在所述衬底的所述第一面上形成所述图案的步骤进一步包括将所述衬底与所述第一模具组件耦连以使所述材料可被置于所述衬底的所述第二面上的步骤。

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