[发明专利]用于衬底双面图案形成的方法和系统

说明书

本申请是PCT国际申请号为PCT/US/2006/046256、PCT国际申请日为2006年11月30日、中国国家申请号为200680046274.8的、题为“用于衬底双面图案形成的方法和系统”的发明专利申请的分案申请。

相关申请的交叉引用

本申请要求对2005年12月8日提交的题为“Apparatus for and Methods for Imprinting,Aligning and Separation”(用于双面压印的压印、对准和分离的装置和方法)的美国临时申请No.60/748,430的优先权。

技术领域

本发明一般涉及结构的纳米制造，尤其涉及衬底的双面图案形成的方法和系统。

背景技术

纳米制造涉及极小结构，例如特征尺寸为纳米级或更小的结构的制造。其中纳米制造具有相当大的影响的一个领域是集成电路加工。随着半导体加工业界继续在增加衬底上形成的每单位面积的电路的同时争取更大的产品成品率，纳米制造变得日益重要。纳米制造提供更多的过程控制同时允许所形成结构的最小特征尺寸不断减小。其它已经使用纳米制造的发展领域包括生物技术、光学技术、机械系统等等。

示例性的纳米制造技术通常称为压印光刻。在很多公开文献中对示例性的压印光刻工艺进行了详细的描述，诸如提交为美国专利申请10/264,960的题为“Method and a Mold to Arrange Features on a substrate to Replicate Features having Minimal Dimensional Variability”(在衬底上安排特征以复制具有最小尺寸可变性的特征的方法和模型)的美国专利申请公开2004/0065976；提交为美国专利申请10/264,926的题为“Method of Foring a Layer on a Substrate to Facilitate Fabrication of Metrology Standards”(在衬底上形成层以便于度量学标准的制作的方法)的美国专利申请公开2004/0065252；以及题为“Functional Patterning Material for Imprint Lithography Processes”(用于压印光刻工艺的功能性图案形成材料)，所有这些都被转让给了本发明的受让人。

在以上提及的美国专利申请公开和美国专利中的每一个中公开的压印光刻技术包括在可聚合层中形成凹凸图案，以及将对应于凹凸图案的图案转移到下面的衬底上。衬底可以被置于移动载物台上以获得期望的位置从而便于其图案形成。为此，采用与衬底间隔开的模板且在模板和衬底之间存在可成形液体。液体被凝固以形成其中记录有图案的凝固层，该图案符合与液体接触的模板的表面的形状。该模板然后与凝固层分离使得模板和衬底是间隔开的。衬底和凝固层然后进行加工以将对应于凝固层中图案的凹凸图案转移到衬底中。

在一些应用中，可能期望在衬底的第一和第二相反两面上形成凹凸图案。在衬底的第一和第二相反两面上形成图案，即双面图案形成，可能对图案形成媒介压印领域有益。所以，存在提供衬底的双面图案形成的方法和系统的需要。

发明内容

本发明公开了一种用模具组件使衬底形成图案的方法，所述衬底具有第一和第二相反两面，所述方法包括以下步骤：获得所述衬底和所述模具组件之间的第一空间关系以使所述衬底的所述第一面与所述模具组件叠加，所述模具组件和所述衬底的所述第一面使一材料置于它们之间；用所述模具组件以所述材料在所述衬底的所述第一面形成图案，从而限定第一图案形成层；获得所述衬底和所述模具组件之间的不同于所述第一空间关系的第二空间关系以使所述衬底的所述第二面与所述模具组件叠加，所述模具组件和所述衬底的所述第二面使一材料置于它们之间；以及用所述模具组件以所述材料在所述衬底的所述第二面上形成图案，从而限定第二图案形成层。并且，上述的方法获得所述第二空间关系的步骤可进一步包括翻转所述衬底的步骤。并且，上述的方法获得所述第二空间关系的步骤可进一步包括将所述衬底相对所述模具组件翻转180°的步骤。