[发明专利]基板的涂敷装置以及基板的涂敷方法

说明书

技术领域

本发明涉及涂敷装置以及涂敷方法，具体涉及一种基板的涂敷装置以及基板的涂敷方法，其由于使基板的涂膜厚度均匀化，特别是即使至少在基板的涂敷末端使喷嘴朝向上方移动的情况下，也能够使由追随于喷嘴的固化机构实施的涂液的固化处理均质化，并且能够提高处理控制的通用性。

背景技术

一直以来，已知一种通过从喷嘴喷出的涂液来对载置于工作台(平台)上的基板进行涂敷的基板的涂敷装置、即所谓的工作台涂料机，所述喷嘴被行走于喷嘴用行走轨道上的喷嘴用支承柱支承为升降自如。在这种基板的涂敷装置中，作为具备用于使被涂敷在基板上的涂液固化的固化机构的涂敷装置，已知专利文献1和2中所述的涂敷装置。

专利文献1的“图案形成方法以及图案形成装置”从喷出喷嘴前端的喷出口朝向基板喷出涂敷液，并且从第一照射光源向刚刚被涂敷在基板上的涂敷液照射波长为365nm的UV光。由此，涂敷液的表面固化。然后，从第二照射光源向接受了之前的UV光的照射的涂敷液照射更长波长(例如，385nm或395nm)的UV光。由于长波长的光进一步照射至涂敷液的内部，因此促进了内部的固化。照射光源经由头部的基座和注射器泵而与喷出喷嘴连结。

在专利文献2的“薄膜形成装置以及薄膜形成方法”中，薄膜形成装置具备：吸附工作台，其对涂敷对象物进行吸附保持；多个涂敷头，其在从喷射式喷嘴向被吸附保持在吸附工作台上的涂敷对象物的表面喷出涂敷材料并且实施薄膜形成；起重台架，其使涂敷头在涂敷对象物的上方位置移动，该薄膜形成装置在起重台架上还具备对涂敷对象物的表面进行加热的热源装置。热源装置经由起重台架而与涂敷头连结。

专利文献1：日本特开2012-143691号公报；

专利文献2：日本特开2013-000656号公报。

为了以均匀的涂膜厚度对基板进行涂敷，需要将行走的喷嘴与基板之间的间隙间隔保持固定。根据需要，喷嘴的行走速度也被加速或减速。特别是，在涂敷结束的基板a的涂敷末端，如图8(a)所示，当停止从喷嘴b喷出涂液c时，存在产生涂液c隆起等、涂膜厚度不均的倾向。

为了防止涂膜厚度的不均，即使在涂敷末端也确保均匀的涂膜厚度，如图8(b)所示，实施如下的动作，即，在喷嘴b即将到达涂敷末端之前停止喷出涂液c，调节喷嘴b的行走速度，并且使该喷嘴b缓慢向上方移动(向斜上方移动)。

如图8(c)所示，在具备固化机构d的情况下，为了使被涂敷在基板a上的涂液c在基板a的整个平面上均质地固化(在图中，用黑色部分表示)，需要将固化机构d与基板a之间的间隙间隔e保持固定。在背景技术所公开的将固化机构d与喷嘴b连结在一起的结构中，固化机构d也与喷嘴b一起行走，当使喷嘴b在涂敷末端向上方移动时，如图所示，固化机构d也将追随喷嘴b而上升。

当固化机构d上升时，固化机构d与基板a之间的间隙间隔以增大(在图中，用f表示)的方式发生变化，其结果为，存在无法在涂敷末端使涂液c均质地固化、或固化变得不充分的课题。

另外，虽然可以代替图8(b)、(c)的动作，实施在喷嘴b到达涂敷末端的同时停止喷出涂液c并使喷嘴b向正上方上升的方法，但是在这种情况下，存在在固化机构d未到达涂敷末端的期间内，固化机构d与基板a之间的间隙间隔增大，无法使涂敷末端正常地固化的课题。

另外，对于喷嘴b的行走速度(涂敷处理速度)和固化机构d的行走速度(固化处理速度)各自而言，存在优选的条件。但是，在将固化机构d连结于喷嘴b的结构中，涂敷处理和固化处理的速度将变得相等。因此，对于涂敷处理及固化处理各自而言，无法实施将速度设为参数的控制。

如此，在将喷嘴b和固化机构d连结在一起的结构中，也存在涂敷处理及固化处理的参数被限定为速度以外的、间隙间隔及喷嘴b的涂液喷出量控制、固化机构d的容量控制等从而缺乏处理控制的通用性的课题。

发明内容

【发明要解决的课题】

本发明是鉴于上述现有课题而实施的发明，其目的在于，提供一种基板的涂敷装置以及基板的涂敷方法，其由于使基板的涂膜厚度均匀化，特别是，即使至少在基板的涂敷末端使喷嘴朝向上方移动的情况下，也能够使由追随于喷嘴的固化机构实施的涂液的固化处理均质化，并且能够提高处理控制的通用性。

【用于解决课题的手段】