[发明专利]一种H-2Kd基因siRNA表达质粒及其制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 201410418981.1 申请日: 2014-08-25
公开(公告)号: CN104178507A 公开(公告)日: 2014-12-03
发明(设计)人: 庄学伟;夏西燕;张义 申请(专利权)人: 庄学伟
主分类号: C12N15/63 分类号: C12N15/63
代理公司: 代理人:
地址: 250000山东*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 sup 基因 sirna 表达 质粒 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种H-2Kd基因siRNA表达质粒,其特征在于,包括序列如SEQ ID NO:1所示的寡核苷酸1和序列如SEQ ID NO:2所示的寡核苷酸2配对结合而成的双链寡核苷酸,其载体为线性化的pSilencer3.0-H1。

2.权利要求1所述的H-2Kd基因siRNA表达质粒的构建方法,其特征在于,包括以下步骤:将合成的寡核苷酸1和寡核苷酸2等量混合,95℃作用3min,37℃孵育1h;将结合的双链寡核苷酸与带有BamHI和HindIII粘性末端的pSilencer3.0-H1载体连接,得到H-2Kd基因siRNA表达质粒。

3.权利要求1所述的H-2Kd基因siRNA表达质粒在抑制H-2Kd基因表达方面的应用。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于庄学伟;,未经庄学伟;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410418981.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top