[发明专利]化学机械研磨之研磨液供给装置在审
申请号: | 201410422520.1 | 申请日: | 2014-08-26 |
公开(公告)号: | CN104308744A | 公开(公告)日: | 2015-01-28 |
发明(设计)人: | 丁弋;朱也方 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 机械 研磨 供给 装置 | ||
1.一种化学机械研磨之研磨液供给装置,其特征在于,所述化学机械研磨之研磨液供给装置,包括:
研磨液供给手臂,活动设置在研磨机台上,并在所述研磨液供给手臂之一侧间隔设置独立的研磨液供给管路;
承载轴,固定设置在所述研磨液供给手臂之内侧;
研磨液供给组件,滑动设置在所述承载轴上,并用于提供研磨液,且选择性的通过所述研磨液供给管路施加在研磨垫上。
2.如权利要求1所述的化学机械研磨之研磨液供给装置,其特征在于,所述研磨液供给手臂活动设置在所述研磨机台上具体为所述研磨液供给手臂通过内置马达沿所述研磨垫所在的平面转动,且所述研磨液供给手臂之转动速度通过所述内置马达进行控制调节。
3.如权利要求1所述的化学机械研磨之研磨液供给装置,其特征在于,所述化学机械研磨之研磨液供给装置进一步包括控制单元,所述控制单元用于控制所述研磨液供给组件在所述承载轴上的滑行距离。
4.如权利要求3所述的化学机械研磨之研磨液供给装置,其特征在于,所述控制单元对所述研磨液供给组件在所述承载轴上的滑行距离之控制采用机械或者电信号方式实现。
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