[发明专利]微机械结构元件和用于微机械结构元件的相应检查方法有效
申请号: | 201410426178.2 | 申请日: | 2014-08-26 |
公开(公告)号: | CN104418293B | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | S·赖斯;S·安布鲁斯特;H·格鲁特杰克;J·穆霍;F·N·恩吉蒙齐;J·巴德尔;R·施特劳布;W·海因策尔曼 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | B81B7/02 | 分类号: | B81B7/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 侯鸣慧 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微机 结构 元件 用于 相应 检查 方法 | ||
本发明提供了一种微机械结构元件和一种用于微机械结构元件的相应检查方法。微机械结构元件包括:至少一个第一区域(1),所述至少一个第一区域通过一弹簧装置(2a)与一第二区域(100)弹性连接;一布置在所述弹簧装置(2a)中和/或上的电阻装置(R;R1;R″;R″';R1、R2、R0),所述电阻装置能够在所述弹簧装置(2a、2b;2a'、2a″、2b'、2b″;22‑25)损坏时至少部分被中断;一检测装置(50;50'),所述检测装置与所述电阻装置(R)电连接,用于检测所述电阻装置(R;R1;R″;R″';R1、R2、R0)的中断和用于产生相应的检测信号(S)。
技术领域
本发明涉及一种微机械结构元件和一种用于微机械结构元件的相应检查方法。
背景技术
虽然原理上可以应用到任意的微机械结构元件上,但是本发明和本发明基于的问题关于MEMS(微机电系统)微反射镜装置来阐释。
DE 10 2008 000 030 A1公开了一种用于微机械静电调节装置的制造方法和相应的微机械静电调节装置,其中,反射镜元件通过弹簧安置到一固定区域上。
MEMS微反射镜可能在运行中或在过载时经历裂缝和/或断裂形式的损坏。这样的损坏可以引发对于人类和机器的安全性上重要的问题,如果这些损坏不能被及时识别的话。
为了预防这类危险而提出:设置一监控方法,用于探测这类MEMS微反射镜装置的损坏。
例如,在MEMS微反射镜装置或另外的MEMS结构如致动器或传感器的情况下,在总模块中装入光学监控单元。在此,通过能运动的MEMS结构反射的光射线的改变可以通过光电二级管被接收。在损坏情况下识别出光电二极管上的信号改变并且这些信号改变被传递给一监控专用集成电路。该专用集成电路然后引起光源、例如激光源的紧急断开或断开。
当所述微机械结构元件包含形式为压阻式桥电路的一探测部件时,根据本发明的电阻装置可以通过如下方式来实现,即,所述探测部件在微机械结构元件的敏感部位上导向,它在该敏感部位损坏时中断。在该情况下,损坏情况通过探测信号、例如桥输出电压的失效而直接能察觉到。
发明内容
本发明提供了一种根据权利要求1所述的微机械结构元件和一种根据权利要求11所述的用于微机械结构元件的相应检查方法。
优选的改进方案是从属权利要求的主题。
发明优点
基于本发明的构思在于沿着微机械结构元件的一敏感的弹簧布置一电阻装置,所述电阻装置例如是植入的压阻电阻或施加的金属电阻的形式。
金属电阻例如可以由铜、铝或另外的金属合金制成。也可以是硅化(salizidierter)电阻、多晶硅导体线路电阻或由微机械结构元件的弹簧装置上的外延(epitaktisch)沉积的多晶硅制成的电阻。
在弹簧装置的损坏情况,例如断裂或裂缝时,施加在电阻装置上的电压或穿过其流动的电流剧烈变化。所述电流或电压变化可以利用电流测量装置或电压测量装置来接收。相应的检测信号可以被继续导引到一专用集成电路上,用于触发光源的紧急断开或用于断开光源。
根据本发明的电阻装置的使用相对于本身公知的评价电路的主要优点是断裂探测的速度,所述本身公知的评价电路评价光学信号的时间上的变化,以便通过分析例如频率部分的变化推断出故障。另一优点是在整个过程中的简单可实现性。
根据一优选的实施方式,所述第一区域是一固定区域并且所述第二区域是一能弹性偏移的反射镜区域。
根据另一优选的实施方式,所述第一区域是一能弹性偏移的驱动区域并且所述第二区域是一能弹性偏移的反射镜区域。
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