[发明专利]一种多电源系、多封装形式的芯片静电放电保护方法有效

专利信息
申请号: 201410427361.4 申请日: 2014-08-27
公开(公告)号: CN104347621A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 张颖;李志国;潘亮 申请(专利权)人: 北京中电华大电子设计有限责任公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/60
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100102 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 电源 封装 形式 芯片 静电 放电 保护 方法
【权利要求书】:

1.一种芯片多电源系、多封装形式的芯片静电放电保护方法,其特征在于,该方法利用sealring中第一层金属至顶层金属的多层宽金属线,作为多电源系芯片的ESD地线通路,增强芯片的ESD放电能力,具体如下:芯片地IO从压焊点bonding PAD处引出金属线,或芯片电源IO和输入输出从bonding PAD两侧将IO单元中的地线引出,并跳层至第一层金属至顶层金属,与sealring的第一层金属至顶层金属相连;保证sealring由第一层金属至顶层金属、P型空穴注入组成,并闭合成环,围绕芯片一周,Sealring中第一层金属至顶层金属通过各层的通孔相连,sealring中的金属线下方通过接触孔,与P型衬底连通,保证金属线的地电位与芯片地电位相同;在芯片内部,各个电源系的地电位仍通过金属连通,与sealring中的宽金属线一起作为ESD地线通路。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于该方法利用sealring中第一层金属至顶层金属多层宽金属线,作为多电源系芯片的ESD地线通路,增强芯片的ESD放电能力,将各个电源系的IO单元中的地线,通过第一层金属至顶层金属连接到sealring的多层宽金属线上,sealring中的多层宽金属线之间通过各层的通孔进行连通,以保证各层之间具有放电通路。

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