[发明专利]纳米真空处理镀膜机

权利要求书

1.一种纳米真空处理镀膜机，特征是设有单体的柜式主体，主体上面设有密封的主体盖，下部设有万象轮；所述主体由上、中、下三部分组成，主体上部是镀膜室，中部是加热室，下部是设备室；所述镀膜室内设有旋转架、镀膜液喷管和温度控制探头；加热室内设有加热设备、镀膜液控制设备和温度控制设备；设备室内设有压缩机、镀膜液容器和中控装置；旋转架与旋转架控制键通过电线连接，镀膜液喷管通过液管与镀膜液控制设备、镀膜液容器连接；所述中控装置与镀膜液控制装置、旋转架控制键连接。

2.根据权利要求1所述的纳米真空处理镀膜机，其特征是所述主体上部正面设有显示屏、镀膜控制键、旋转架控制键；主体中部正面设有电源开关和中门；主体下部设有下门。

3.根据权利要求1所述的纳米真空处理镀膜机，其特征是所述中门和下门上设有锁。

4.根据权利要求1所述的纳米真空处理镀膜机，其特征是所述镀膜液采用纳米级镀膜液。