[发明专利]纳米真空处理镀膜机

说明书

技术领域

本发明属于镀膜机技术领域，尤其涉及一种纳米真空处理镀膜机。

背景技术

现有的镀膜机都很笨重，占地面积大，只能放在面积较大的空间，并且移动不便，例如专利号为CN200910302939的《镀膜机》、CN200910303404的《真空镀膜机》、CN201010150151的《镀膜机》，诸如此类的镀膜机给人移动和放置带来不便。

发明内容

本发明的目的在于提出一种单体的纳米真空处理镀膜机，占地面积小，移动方便。

为了实现上述目的本发明所采用的技术方案是：一种纳米真空处理镀膜机，设有单体的柜式主体，主体上面设有密封的主体盖，下部设有万象轮；所述主体由上、中、下三部分组成，主体上部是镀膜室，中部是加热室，下部是设备室；所述镀膜室内设有旋转架、镀膜液喷管和温度控制探头；加热室内设有加热设备、镀膜液控制设备和温度控制设备；设备室内设有压缩机、镀膜液容器和中控装置；旋转架与旋转架控制键通过电线连接，镀膜液喷管通过液管与镀膜液控制设备、镀膜液容器连接；所述中控装置与镀膜液控制装置、旋转架控制键连接。

所述主体上部正面设有显示屏、镀膜控制键、旋转架控制键；主体中部正面设有电源开关和中门；主体下部设有下门。

所述中门和下门上设有锁。

所述镀膜液采用纳米级镀膜液。

本发明的有益效果是：本发明采用单体的纳米真空处理镀膜机，移动方便，占用空间小，从而可有效减少场地费用并提高生产效率。

附图说明

图1为本发明的结构示意图。

图中所示：1主体，2主体盖，3显示屏，4镀膜控制键，5旋转架控制键，6电源开关，7中门，8下门，9万象轮。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式进一步对本发明加以说明；

实施例1：如图1所示，一种纳米真空处理镀膜机，设有单体的柜式主体1，主体1上面设有密封的主体盖2，下部设有万象轮9；所述主体1由上、中、下三部分组成，主体上部是镀膜室，中部是加热室，下部是设备室；所述镀膜室内设有旋转架、镀膜液喷管和温度控制探头；加热室内设有加热设备、镀膜液控制设备和温度控制设备；设备室内设有压缩机、镀膜液容器和中控装置。所述主体上部正面设有显示屏3、镀膜控制键4、旋转架控制键5；主体中部正面设有电源开关6和中门7；主体下部设有下门8。所述中门7和下门8上设有锁。所述镀膜液采用纳米级镀膜液。旋转架与旋转架控制键5通过电线连接，镀膜液喷管通过液管与镀膜液控制设备、镀膜液容器连接；所述中控装置与镀膜液控制装置、旋转架控制键5连接。

最后应说明的是：显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之中。