[发明专利]处理基板的装置和清洁该装置的方法

权利要求书

1.一种处理基板的装置，所述装置包括：

转盘头，在所述转盘头上放置基板；

容器，所述容器被设置为围绕转盘头；

上管口部件，所述上管口部件向下供应的处理溶液；

底部清洁部件，所述底部清洁部件与所述转盘头的底部相距一定距离定位，其中底部清洁部件将冲洗溶液喷射至所述转盘头的底部，

其中，所述底部清洁部件包括：

支撑臂，所述支撑臂与所述转盘头的底部相距一定距离定位；和

第一清洁管口，所述第一清洁管口设置在所述支撑臂上以面对所述转盘头的底部，

其中，所述底部清洁部件进一步包括：

二级支撑臂，所述二级支撑臂与所述转盘头的底部相距一定距离定位，其中，所述二级支撑臂短于所述支撑臂；和

第二清洁管口，所述第二清洁管口设置在二级支撑臂上，比所述第一清洁管口更靠近所述转盘头的中央部分。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述底部清洁部件进一步包括设置在所述支撑臂上的第二清洁管口，所述设置在所述支撑臂上的第二清洁管口关于所述第一清洁管口定位在所述转盘头的中央部分。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，所述转盘头包括：

本体，在所述本体上放置基板；

卡盘针，所述卡盘针安装在所述本体上以从所述本体向上突出；和

卡盘针移动单元，所述卡盘针移动单元连接至所述卡盘针的下部以驱动所述卡盘针。

4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述本体包括定位为能够移动所述卡盘针的针孔，和连接至所述针孔的下部孔，所述针孔形成在所述本体的顶部，而所述下部孔形成在所述本体的下部。

5.根据权利要求4所述的装置，其中，所述第一清洁管口和所述转盘头的中央轴之间的距离等于所述下部孔和所述转盘头的中央轴之间的距离。

6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述本体包括连接至所述针孔和所述下部孔的通孔，所述通孔 形成在所述本体的侧面。