[发明专利]一种高密着性防静电离型膜有效
申请号: | 201410441150.6 | 申请日: | 2014-09-02 |
公开(公告)号: | CN104210195A | 公开(公告)日: | 2014-12-17 |
发明(设计)人: | 梁仁调;林海峰;鲍浪静 | 申请(专利权)人: | 浙江洁美电子科技股份有限公司 |
主分类号: | B32B27/06 | 分类号: | B32B27/06;B32B27/18;B32B27/36;B32B37/14;C09D183/07;C09D7/12 |
代理公司: | 湖州金卫知识产权代理事务所(普通合伙) 33232 | 代理人: | 裴金华 |
地址: | 313300 浙江省湖州市安吉县经济*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高密 着性防 静电 离型膜 | ||
1.一种高密着性防静电离型膜,其特征在于:包括基材层,所述基材层上涂布有防静电层,所述防静电层由防静电液涂覆而成,所述防静电层上涂布有离型层,所述离型层由离型剂涂覆而成,所述离型剂由下列质量百分比组分组成:
乙烯基端基有机硅树酯 5-30%
架桥剂 0.3-5%
铂金催化剂 0.5-8%
甲苯 5-50%
乙酸乙酯 5-80%。
2.根据权利要求1所述一种高密着性防静电离型膜,其特征在于:所述离型剂的使用浓度为5-10%,所述离型剂的涂布干量为0.3-1g/m2。
3.根据权利要求1所述一种高密着性防静电离型膜,其特征在于:所述基材层的基材为PET、PBT、PEN、PBN中的一种或几种。
4.根据权利要求3所述一种高密着性防静电离型膜,其特征在于:所述基材层的厚度为25um-250um。
5.根据权利要求1所述一种高密着性防静电离型膜,其特征在于:所述离型剂中还包括离型剂总质量的1-3%的颗粒物,所述颗粒物为硅石颗粒。
6.根据权利要求5所述一种高密着性防静电离型膜,其特征在于:所述硅石颗粒的粒径大小为0.1-0.2μm。
7.根据权利要求1所述一种高密着性防静电离型膜,其特征在于:所得离型膜的表面电阻值为108-109Ω。
8.根据权利要求1所述一种高密着性防静电离型膜,其特征在于:所得离型膜的残余接着率为95%-98%。
9.根据权利要求1所述一种高密着性防静电离型膜,其特征在于:所述防静电层的厚度为0.1-0.5μm。
10.根据权利要求9所述一种高密着性防静电离型膜,其特征在于:所述防静电液中加有导电颗粒,所述导电颗粒为炭黑颗粒或石墨颗粒或两者的混合物,所述导电颗粒的粒径大小为0.01-0.2μm。
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