[发明专利]具有高开口率的像素结构及电路有效
申请号: | 201410443931.9 | 申请日: | 2014-09-02 |
公开(公告)号: | CN104157678B | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 李文辉;罗长诚;曾志远;胡宇彤 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 开口 像素 结构 电路 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种具有高开口率的像素结构及电路。
背景技术
平面显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。现有的平面显示器件主要包括液晶显示器件(Liquid Crystal Display,LCD)及有机发光二极管显示器件(Organic Light Emitting Display,OLED)。
有机发光二极管显示器件由于同时具备自发光,不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异特性,被认为是下一代平面显示器的新兴应用技术。
OLED显示器件按照驱动类型可分为无源OLED(PM-OLED)和有源OLED(AM-OLED)。AM-OLED的显示面板属于主动显示类型,需要在阵列基板上制作呈阵列式分布的像素结构。如图1所示,现有的AM-OLED的每一像素结构一般为两个薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)之间夹着一个存储电容。具体的,第一薄膜晶体管TFT1’由第一栅极210、第一源/漏极610及夹在两者之间的蚀刻阻挡层500、第一半导体层410与栅极绝缘层300构成;第二薄膜晶体管TFT2’由第二栅极220、第二源/漏极620及夹在两者之间的蚀刻阻挡层500、第二半导体层420与栅极绝缘层300构成;存储电容C’由与第一、第二栅极210、220同时形成的第一金属电极230、与第一、第二源/漏极610、620同时形成的第二金属电极630及夹在两者之间的蚀刻阻挡层500与栅极绝缘层300构成。由于金属材质会遮蔽光,阻碍光透过,因此第一、第二薄膜晶体管TFT1’、TFT2’与存储电容C’必然占用一定的像素面积,造成像素有效显示面积下降,即开口率下降,大大限制了光利用率,特别是对于高分辨率、底部发光的AM-OLED,开口率的下降更为严重,容易造成显示亮度不足,功率消耗过大等问题。
图2为图1的等效电路图,第一薄膜晶体管TFT1’作为信号切换晶体管,第二薄膜晶体管TFT2’作为驱动晶体管。具体的,第一薄膜晶体管TFT1’的栅极连接栅极驱动电压信号Vgate,源极连接数据驱动电压信号Vdata,漏极与第二薄膜晶体管TFT2’的栅极连接;第二薄膜晶体管TFT2’的源极连接驱动电压信号Vdd,漏极连接有机发光二级管D的阳极;有机发光二级管D的阴连极接地信号Vss;存储电容C’的一电极连接第二薄膜晶体管TFT2’的栅极,另一电极连接第二薄膜晶体管TFT2’的源极。
该电路的工作原理是,当栅极驱动电压信号Vgate到来时,第一薄膜晶体管TFT1’导通,数据驱动电压信号Vdata输入第二薄膜晶体管TFT2’的栅极,第二薄膜晶体管TFT2’导通,驱动电压信号Vdd经该第二薄膜晶体管TFT2’放大后驱动有机发光二极管D进行显示。而当栅极驱动电压信号Vgate结束后,存储电容C’是维持像素电极电位的主要手段。
发明内容
本发明的目的在于提供一种具有高开口率的像素结构,能够显著增加像素的有效显示面积,提高开口率,提高显示亮度,降低功耗。
本发明的目的还在于提供一种具有高开口率的像素结构的电路,有利于提高开口率,提升显示效果。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的