[发明专利]图案形成方法和磁记录介质的制造方法在审
申请号: | 201410454113.9 | 申请日: | 2014-09-05 |
公开(公告)号: | CN105006238A | 公开(公告)日: | 2015-10-28 |
发明(设计)人: | 木村香里;藤本明;渡部彰 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G11B5/667 | 分类号: | G11B5/667;G11B5/851 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 刘航;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 形成 方法 记录 介质 制造 | ||
1.一种磁记录介质的制造方法,其特征在于,具备:
在基板上,向具有表面极性与该基板相近的第1保护基、且至少在表面具有选自铝、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、锌、钇、锆、锡、钼、钽、钨、金、银、钯、铜、铂、及其氧化物中的材料的微粒添加第2保护基和第2溶剂,调制第2分散液的工序;
在该第2分散液中用该第2保护基修饰具有该第1保护基的微粒,形成具有该第1保护基和第2保护基的微粒的工序;
向包含具有该第1保护基和第2保护基的微粒的分散液添加粘度调整剂,调制微粒涂布液的工序;
涂布该微粒涂布液,在所述基板上形成单层的微粒层的工序;以及
在由所述微粒构成的周期性图案上形成磁记录层的工序。
2.根据权利要求1所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,在形成所述磁记录层的工序之前,还包括以所述微粒为掩模将所述第1保护基和第2保护基蚀刻的工序。
3.根据权利要求1所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,在所述基板与所述微粒层之间进一步设置基底层,在形成所述磁记录层的工序之前,还包括以所述微粒为掩模向该基底层转印由所述微粒构成的周期性图案,并除去该微粒的工序。
4.一种磁记录介质的制造方法,其特征在于,具备:
向具有表面极性与包含磁记录层的基板相近的第1保护基、且至少在表面具有选自铝、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、锌、钇、锆、锡、钼、钽、钨、金、银、钯、铜、铂、及其氧化物中的材料的微粒添加第2保护基和第2溶剂,调制第2分散液的工序;
在该第2分散液中用该第2保护基修饰具有该第1保护基的微粒,形成具有该第1保护基和第2保护基的微粒的工序;
向包含具有该第1保护基和第2保护基的微粒的分散液添加粘度调整剂,调制微粒涂布液的工序;
在所述基板上涂布该微粒涂布液,形成单层的微粒层的工序;以及
向所述磁记录层转印由该微粒层构成的周期性图案的工序。
5.根据权利要求1~4的任一项所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,所述第2溶剂选自己烷、2-丁酮、甲苯、二甲苯、环己烷、环己酮、PGMEA、二甘醇二甲醚、乳酸乙酯、乳酸甲酯、四氢呋喃、及它们的混合物中。
6.根据权利要求1~4的任一项所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,
具有所述第1保护基的微粒,是通过制成在第1溶剂中分散有第1保护基和所述微粒的第1分散液,并在该第1分散液中使该微粒结合所述第1保护基的工序得到的,
形成所述第2分散液的工序,包括:使该第1分散液沉淀而除去上清液,并向具有该第1保护基的微粒添加所述第2溶剂和分散于该第2溶剂的所述第2保护基的工序。
7.根据权利要求6所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,所述第1保护基中的反应性官能团数/所述微粒表面积为0.1~100个/nm2。
8.根据权利要求6所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,所述第1溶剂选自己烷、2-丁酮、甲苯、二甲苯、环己烷、环己酮、PGMEA、二甘醇二甲醚、乳酸乙酯、乳酸甲酯、四氢呋喃、及它们的混合物中。
9.根据权利要求1~4的任一项所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,所述第1保护基具有与第2保护基的主链相同的主链。
10.根据权利要求9所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,所述第1保护基与第2保护基相同。
11.根据权利要求1~4的任一项所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,所述第1保护基和第2保护基,包含羧基或硫醇基来作为反应性官能团。
12.根据权利要求11所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,所述微粒至少在表面具有选自铝、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、锌、钇、锆、锡、钼、钽、和钨、以及其氧化物中的材料时,所述第1保护基和第2保护基包含羧基来作为反应性官能团。
13.根据权利要求11所述的磁记录介质的制造方法,其特征在于,所述微粒至少在表面具有选自金、银、钯、铜、铂、及其氧化物中的材料时,所述第1保护基和第2保护基包含硫醇基来作为反应性官能团。
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