[发明专利]一种LCOS微显示驱动面板制备方法有效

专利信息
申请号: 201410459151.3 申请日: 2014-09-10
公开(公告)号: CN104269346A 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 杜寰 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;G02F1/1343;G02F1/1333
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘杰
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 lcos 显示 驱动 面板 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种LCOS微显示驱动面板制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

硅衬底及集成电路器件制备;

通过等离子增强化学气相淀积PECVD方法生长介质;

对所述介质进行化学机械抛光CMP;

铝布线步骤;

刻通孔;

溅射Ti/TiN和钨,反刻钨,形成钨塞;

制备镜面反射电极;

制备薄盒,灌装液晶。

2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述方法还包括:键合引出电路管脚以及成品测试的步骤。

3.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述镜面反射电极通过像素表面蒸发形成。

4.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述镜面反射电极的制备材料为银。

5.如权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述制备镜面反射电极的步骤具体为依次进行光刻、蒸银、剥离银。

6.如权利要求1-5任一项所述的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下工艺步骤:

(1)硅衬底及集成电路器件制备;

(2)PECVD(等离子增强化学气相淀积)方法生长介质一;

(3)CMP(化学机械抛光),保证硅片表面平整度;

(4)光刻并刻蚀接触孔;

(5)溅射铝并光刻、刻蚀,形成一铝布线;

(6)PECVD介质二;

(7)CMP;

(8)刻一次通孔;

(9)二铝布线;

(10)PEECVD介质三;

(11)CMP;

(12)刻二次通孔。

(13)溅射Ti/TiN和钨,反刻钨,形成钨塞;

(14)蒸银;

(15)剥离银,形成银反射电极;

(16)制备薄盒,灌装液晶;

(17)键合引出电路管脚;

(18)成品测试。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410459151.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top