[发明专利]透明导电性薄膜有效
申请号: | 201410466045.8 | 申请日: | 2012-11-22 |
公开(公告)号: | CN104199585B | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 津野直树;鹰尾宽行;高田胜则;猪饲和宏 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明 导电性 薄膜 | ||
1.一种透明导电性薄膜,其具有:
由非晶性聚合物薄膜形成的基材,和
在所述基材的一个面上依次形成的第1硬涂层、第1透明导体层、以及第1金属层,和
在所述基材的另一面上依次形成的第2硬涂层、第2透明导体层、以及第2金属层,
所述第1硬涂层含有粘结剂树脂和多个颗粒,
所述第1硬涂层中所含的所述颗粒的直径或者高度比所述第1硬涂层中所含的所述粘结剂树脂的平坦区域的厚度更大,
所述第1金属层的厚度为50nm~500nm,且在其表面具有多个凸部,所述凸部起因于所述第1硬涂层所含的所述多个颗粒,
所述第2硬涂层含有粘结剂树脂和多个颗粒,
所述第2硬涂层中所含的所述颗粒的直径或者高度比所述第2硬涂层中所含的所述粘结剂树脂的平坦区域的厚度更大,
所述第2金属层的厚度为50nm~500nm,且在其表面具有多个凸部,所述凸部起因于所述第2硬涂层所含的所述多个颗粒。
2.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜,其中,所述第1金属层的表面的所述凸部的分布密度为100个/mm2~2000个/mm2,所述第2金属层的表面的所述凸部的分布密度为100个/mm2~2000个/mm2。
3.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜,其中,形成所述非晶性聚合物薄膜的材料为聚环烯烃或聚碳酸酯。
4.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜,其中,所述非晶性聚合物薄膜的面内的双折射率为0~0.001,面内的双折射率的偏差为0.0005以下。
5.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜,其中,形成所述第1硬涂层中所含的所述颗粒的材料以及形成所述第2硬涂层中所含的所述颗粒的材料为丙烯酸类聚合物、有机硅聚合物、苯乙烯聚合物、或无机二氧化硅。
6.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜,其中,所述第1硬涂层中所含的所述多个颗粒的含量为所述第1硬涂层的0.05重量%~3重量%,所述第2硬涂层中所含的所述多个颗粒的含量为所述第2硬涂层的0.05重量%~3重量%。
7.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜,其中,所述第1金属层的表面的算术平均粗糙度Ra为0.005μm~0.05μm,最大高度Rz为0.5μm~2.5μm,所述第2金属层的表面的算术平均粗糙度Ra为0.005μm~0.05μm,最大高度Rz为0.5μm~2.5μm。
8.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜,其中,形成所述第1透明导体层的材料和形成所述第2透明导体层的材料为铟锡氧化物、铟锌氧化物、或者氧化铟-氧化锌复合氧化物中的任一种。
9.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜,其中,形成所述第1金属层的材料和形成所述第2金属层的材料为铜或银。
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