[发明专利]液处理装置有效

专利信息
申请号: 201410466264.6 申请日: 2014-09-12
公开(公告)号: CN104517870B 公开(公告)日: 2018-09-18
发明(设计)人: 胁山辉史;伊藤规宏;东岛治郎 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 杯体 液处理装置 包围构件 板部 基板 包围 气流形成部 区域包围 上方空间 下降气流 处理液 堵塞杯 排气口 液处理 排气 开口 清洁
【权利要求书】:

1.一种液处理装置,其将基板保持于旋转自如的基板保持部,并对基板供给处理液来进行液处理,其特征在于,

该液处理装置包括:

杯体,其包围上述基板保持部,并在基板上方设有开口;

包围构件,其在比上述杯体靠外侧的位置将包括上述杯体的上方空间在内的区域包围;

气流形成部,其用于从上述杯体的上侧起在杯体内形成下降气流;

板部,其沿着上述杯体的周向设置,堵塞上述杯体和上述包围构件之间的间隙;

排气口,其为了对位于上述板部上方的被上述包围构件和上述板部包围的区域进行排气而设于比上述杯体靠外侧的位置;以及

处理液供给机构,其包括:喷嘴部,其用于向基板供给处理液;喷嘴臂,上述喷嘴部保持于该喷嘴臂的顶端部;以及旋转驱动部,其设于上述喷嘴臂的基端部,用于驱动上述喷嘴臂而使上述喷嘴臂以该基端部为中心进行旋转,从而使上述喷嘴部在被保持于上述基板保持部的基板的上方的处理位置和从该处理位置退避开的退避位置之间移动,

其中,上述退避位置被设定于上述处理液供给机构的喷嘴臂处于该退避位置时该喷嘴臂沿着上述包围构件延伸的位置,

上述排气口配置在使上述喷嘴臂退避到该退避位置的上述处理液供给机构和上述包围构件之间,

上述排气口的长度形成得比从上述顶端部到上述基端部的距离长,并且沿着在使上述喷嘴臂退避到上述退避位置时的从上述顶端部到上述基端部的区域配置上述排气口,

因在上述液处理装置对上述基板进行处理时产生的涡流而向比上述杯体靠外方的位置流出的气流沿着上述板部的上表面向上述排气口引导。

2.根据权利要求1所述的液处理装置,其特征在于,

上述杯体具有用于接收向基板供给的处理液的第1杯、自上方覆盖上述第1杯的第2杯,在上述第1杯和上述第2杯之间形成有排气路径,

上述板部以与上述第2杯之间没有间隙的方式设置。

3.根据权利要求1或2所述的液处理装置,其特征在于,

上述板部具有第1板部、设于上述第1板部的上侧的第2板部,上述排气口形成于上述第2板部。

4.根据权利要求3所述的液处理装置,其特征在于,

在上述第1板部和上述第2板部之间形成有缓冲空间,上述第1板部与排气部相连接。

5.根据权利要求2所述的液处理装置,其特征在于,

上述排气口以沿着上述包围构件延伸的方式形成于上述板部上的与上述包围构件靠近的位置。

6.根据权利要求5所述的液处理装置,其特征在于,

在上述基板保持部的上侧设有用于在被上述包围构件和上述板部包围的区域形成下降气流的下降气流形成部。

7.根据权利要求1或2所述的液处理装置,其特征在于,

上述板部设于上述板部的上表面与上述杯体的上端平齐的位置。

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