[发明专利]描绘装置、基板处理系统以及描绘方法

权利要求书

1.一种描绘装置，对基板照射光来描绘电路图案，其特征在于，

具有：

基板保持部，其保持设定有多个描绘区域的基板；

拍摄部，其拍摄在各描绘区域中设定的多个定位标记；

合格与否信息取得部，其基于所述拍摄部对所述各描绘区域的拍摄结果，取得所述多个定位标记在所述基板上的位置，根据所述多个定位标记的位置与设计上的基准位置之间的偏离量是否在允许范围内，判定所述各描绘区域的位置或畸变的合格与否信息；

描绘头，其对所述基板照射被调制后的光；

移动机构，其通过使所述基板与所述基板保持部一起相对于所述描绘头移动，使来自所述描绘头的光的照射区域在所述基板上扫描；

描绘控制部，其通过控制所述描绘头以及所述移动机构，仅对被所述合格与否信息取得部判定为良好的描绘区域即正常描绘区域描绘电路图案。

2.根据权利要求1所述的描绘装置，其特征在于，

通过所述描绘控制部控制所述描绘头以及所述移动机构，在被所述合格与否信息取得部确定为存在缺陷的描绘区域即缺陷描绘区域描绘表示存在缺陷的缺陷表示图案。

3.根据权利要求2所述的描绘装置，其特征在于，

在所述合格与否信息取得部中，还确定所述缺陷描绘区域的缺陷种类，

所述缺陷表示图案包括表示所述缺陷种类的信息。

4.根据权利要求3所述的描绘装置，其特征在于，

所述缺陷表示图案配置在第一定位标记上或所述第一定位标记的周围，所述第一定位标记是指，在所述缺陷描绘区域的多个定位标记中，由后续工序的装置最先拍摄的定位标记。

5.根据权利要求2所述的描绘装置，其特征在于，

所述缺陷表示图案配置在第一定位标记上或所述第一定位标记的周围，所述第一定位标记是指，在所述缺陷描绘区域的多个定位标记中，由后续工序的装置最先拍摄的定位标记。

6.根据权利要求2所述的描绘装置，其特征在于，

所述缺陷表示图案为预先决定的区域中的涂抹图案或斜线阴影图案。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的描绘装置，其特征在于，

还具有缺陷信息输出部，所述缺陷信息输出部输出被所述合格与否信息取得部确定为存在缺陷的描绘区域即缺陷描绘区域在所述基板上的位置信息。

8.一种描绘装置，对基板照射光来描绘电路图案，其特征在于，

具有：

基板保持部，其保持设定有多个描绘区域的基板；

拍摄部，其拍摄在各描绘区域中设定的多个定位标记；

合格与否信息取得部，其基于所述拍摄部的拍摄结果，根据在前工序中检测出存在缺陷的描绘区域即缺陷描绘区域的定位标记或其周边图案是否改变来取得所述各描绘区域的合格与否信息；

描绘头，其对所述基板照射被调制后的光；

移动机构，其通过使所述基板与所述基板保持部一起相对于所述描绘头移动，使来自所述描绘头的光的照射区域在所述基板上扫描；

描绘控制部，其通过控制所述描绘头以及所述移动机构，仅对被所述合格与否信息取得部确认为良好的描绘区域即正常描绘区域描绘电路图案。

9.根据权利要求8所述的描绘装置，其特征在于，

通过所述描绘控制部控制所述描绘头以及所述移动机构，在被所述合格与否信息取得部确定为存在缺陷的描绘区域即缺陷描绘区域描绘表示存在缺陷的缺陷表示图案。

10.根据权利要求9所述的描绘装置，其特征在于，

在所述合格与否信息取得部中，还确定所述缺陷描绘区域的缺陷种类，

所述缺陷表示图案包括表示所述缺陷种类的信息。