[发明专利]一种光学玻璃双面精加工专用研磨垫及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410478674.2 申请日: 2014-09-18
公开(公告)号: CN104261726A 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 周群飞;饶桥兵;曾枧 申请(专利权)人: 蓝思科技股份有限公司
主分类号: C04B26/14 分类号: C04B26/14;C04B14/04;C04B14/36;C04B22/04
代理公司: 长沙市融智专利事务所 43114 代理人: 魏娟
地址: 410329 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学玻璃 双面 精加工 专用 研磨 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种光学玻璃双面精加工专用研磨垫,由下至上依次为双面贴胶的PC板层、PET膜层、无纺布层、磨体坯块层,其特征在于,所述的磨体坯块层为由以下质量百分比组分原料通过模具成型、热压固化制成:

双酚A型环氧树脂 30~55%;

金刚石 5~20%;

滑石粉 1~10%;

硅灰石 20~45%;

铝粉 1~5%;

石墨 1~10%;

碳化硅 5~15%;

气相二氧化硅 0.5~5%;

所述双酚A型环氧树脂的环氧值为0.8~0.9mol/100g,25℃条件下的粘度为200~220mpa.s,耐热温度为130~138℃。

2.如权利要求1所述的光学玻璃双面精加工专用研磨垫,其特征在于,所述的金刚石平均粒径为5~25um;所述的碳化硅平均粒径为5~15μmμm;所述的滑石粉平均粒径为5~15μm;,所述的硅灰石平均粒径为5~15μm;所述的石墨平均粒径为5~15μm;所述的铝粉平均粒径为5~15μm;其中,碳化硅平均粒径要比所述金刚石的平均粒径小。

3.如权利要求1所述的光学玻璃双面精加工专用研磨垫,其特征在于,所述的磨体坯块由相等纵横间距排布的长为2.0~3.0mm,宽为2.0~3.0mm,高为1.0~1.5mm的方形磨块构成,其中,长和宽尺寸相等。

4.如权利要求3所述的光学玻璃双面精加工专用研磨垫,其特征在于,方形磨块与方形磨块之间的纵横间距为1~2mm。

5.如权利要求1所述的光学玻璃双面精加工专用研磨垫,其特征在于,所述的PET膜层厚度为115~135μm;所述的双面贴胶的PC板层厚度为900~1200μm;所述的无纺布层厚度为50um~100μm。

6.一种如权利要求1~5任一项所述的光学玻璃双面精加工专用研磨垫的制备方法,其特征在于,将磨体坯块层原料混合均匀后平整地填充到模具中,对填充在模具中的磨体坯块原料进行真空除泡处理后,将磨体坯块原料表面刮平整,在刮平整后的磨体坯块原料表面贴一层无纺布,再在所述无纺布表面贴PET膜;将贴了PET膜的模具置于固化炉中进行热压固化,冷却、脱模,在PET膜表面粘贴两面附胶的PC板,即得。

7.如权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述的热压固化采用阶梯式升温固化:在90~105℃,保持0.3~0.7h;115~125℃,保持0.3~0.7h;130~138℃,保持1~3h。

8.如权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述的模具底部设有若干长为2.0~3.0mm,宽为2.0~3.0mm,深度为1.0~1.5mm,且长和宽相等的方形凹槽。

9.如权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述的方形凹槽以相等的纵横间距1~2mm有序排布在模具底部。

10.如权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述的真空除泡处理时间为30~60min。

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