[发明专利]一种光学玻璃双面精加工专用研磨垫及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学玻璃双面精加工专用研磨垫及其制备方法，属于光学玻璃双面精加工领域。

背景技术

目前，国内大多数光学玻璃加工企业，采用的还是传统的游离磨料研磨工艺，即在冷却液中加入磨料，磨料随着冷却液分散到研磨盘中(研磨盘上下盘均为铁盘)，达到研磨的作用，但这种工艺研磨效率低，磨料和废屑一起被清洗掉，造成磨料的浪费和废液处理成本的增加，且磨料在研磨盘上是随机分布的，其分布密度不均，造成研磨切屑量的不均，产品表面精度不易控制。

采用固结磨料研磨时，有较高的加工效率和产品表面质量，且固结磨料之间不会相互磨削，从而可以减少磨粒的损耗，在使用过程中无需添加磨料，减少了研磨废液的处理量，减轻了环境污染，可以有效的降低生产成本。因此，固结磨料研磨垫的研究成了了研磨加工行业的热点，目前只有美国3M公司成功制备了一种3M-4S固结磨料研磨垫取得了不错的效果，但是该研磨垫只适用于部分产品，且使用寿命偏短，加工产品的平整度差，制作成本高。

发明内容

本发明的目的是在于提供一种廉价、使用寿命长、对玻璃精加工研磨性能稳定、效率高、精确度高的光学玻璃双面精加工专用研磨垫，该研磨垫有效提高了玻璃的表面品质，大大降低了玻璃的加工成本。

本发明的另一个目的是在于提供一种操作简便、成本低、效率高的制备所述光学玻璃双面精加工专用研磨垫的方法。

本发明提供了一种光学玻璃双面精加工专用研磨垫，该研磨垫由下至上依次为双面贴胶的PC板层、PET膜层、无纺布层、磨体坯块层，所述的磨体坯块层由以下质量百分比组分原料通过模具成型、热压固化制成：双酚A型环氧树脂30～55％；金刚石5～20％；滑石粉1～10％；硅灰石20～45％；铝粉1～5％；石墨1～10％；碳化硅5～15％；气相二氧化硅0.5～5％；所述双酚A型环氧树脂的环氧值为0.8～0.9mol/100g，25℃条件下的粘度为200～220mpa.s，耐热温度为130～138℃。

本发明的光学玻璃双面精加工专用研磨垫包括以下优选方案：

优选的磨体坯块层配方由以下原料组成：双酚A型环氧树脂36～46％；金刚石8～14％；滑石粉4～8％；硅灰石22～30％；铝粉1～2％；石墨3～8％；碳化硅6～9％；气相二氧化硅2～4％。

优选的金刚石平均粒径为5～25um。

优选的碳化硅平均粒径为5～15μmμm。

优选的硅灰石平均粒径为5～15μm。

优选的石墨平均粒径为5～15μm。

优选的铝粉平均粒径为5～15μm。

优选的滑石粉平均粒径为5～15μm。

优选的原料配方中碳化硅平均粒径要比所述金刚石的平均粒径小。

优选的磨体坯块磨体坯块由相等纵横间距排布的长为2.0～3.0mm，宽为2.0～3.0mm，高为1.0～1.5mm的方形磨块构成，其中，长和宽尺寸相等。

优选的磨体坯块表面方形磨块与方形磨块之间的纵横间距为1～2mm。

优选的PET膜层厚度为115～135μm。

优选的双面贴胶的PC板层厚度为900～1200μm。

优选的无纺布层厚度为50um～100μm。

优选的气相二氧化硅的比表面积为150～200m²/g。

本发明的光学玻璃双面精加工专用研磨垫中PET膜层起到承载和固定磨体坯块的作用；PC板层主要增强研磨垫的柔韧性，抗弯折；双面胶层主要粘接PC板层与PET膜层及PC板与研磨盘，让研磨垫固定在研磨盘上加工产品。

本发明还提供了一种所述的光学玻璃双面精加工专用研磨垫的制备方法，该制备方法是将磨体坯块层原料混合均匀后平整地填充到模具中，对填充在模具中的磨体坯块原料进行真空除泡处理后，将磨体坯块原料表面刮平整，在刮平整后的磨体坯块原料表面贴一层无纺布，再在所述无纺布表面贴PET膜；将贴了PET膜的模具置于固化炉中进行热压固化，冷却、脱模，在PET膜表面粘贴两面附胶的PC板，即得。

本发明的光学玻璃双面精加工专用研磨垫的制备方法还包括以下优选方案：

优选的方案中热压固化采用阶梯式升温固化：在90～105℃，保持0.3～0.7h；115～125℃，保持0.3～0.7h；130～138℃，保持1～3h。

优选的方案中的模具底部设有若干长为2.0～3.0mm，宽为2.0～3.0mm，深度为1.0～1.5mm，且长和宽相等的方形凹槽。