[发明专利]描绘装置

说明书

技术领域

本发明涉及对对象物照射光来描绘图案的描绘装置。

背景技术

以往，公知有使被空间调制后的光照射工作台上的对象物，使该光的照射区域在对象物上扫描，来描绘图案的描绘装置。在这样的描绘装置中，由于光源劣化、空间光调制设备的特性劣化、光学系的透光率降低、附着异物等，有时对象物上的光量降低。因此，在这样的描绘装置中，通过设置在工作台附近的光量传感器检测来自描绘头的光量。

例如，在JP特开2003-177553号公报(文献1)的激光描绘装置中，在声光调制器(acousto optical modulator)和多面反射镜(polygon mirror)之间设置第一光量监视器，在描绘工作台上设置第二光量监视器。在该激光描绘装置中，即使由于光学部件的特性劣化或附着异物等而第一光量监视器的光学特性变化，也能够基于第二光量监视器检测出的光量，校正第一光量监视器的光量检测精度。

在JP特开2008-242173号公报(文献2)的曝光描绘装置中，在对来自光源的光进行分离的光阑构件(aperture member)和空间光调制装置之间设置第一光量传感器，在被曝光体台上设置第二光量传感器。在该曝光描绘装置中，基于来自第一光量传感器的输出和来自第二光量传感器的输出，判断从光阑构件至被曝光体的状况。

在JP特开2010-85507号公报(文献3)的曝光装置中，在光源附近设置用于测定光源的光量的第一光量传感器，在基板的周边设置用于测定经由光学元件后的光量的第二光量传感器。在该曝光装置中，基于来自第一光量传感器的输出判定光源的寿命期限。在通过来自第一光量传感器的输出判定为光源在寿命期限内时，基于来自第二光量传感器的输出，判定光学元件的特性是否良好。

但是，在文献1的激光描绘装置中，在第二光量监视器的光学特性劣化的情况下，很难高精度地校正第一光量监视器的光量检测精度。另外，在文献2以及文献3的曝光装置中，在第一光量传感器或第二光量传感器发生光学特性的劣化等的情况下，基于来自第一光量传感器的输出和来自第二光量传感器的输出的检查精度有可能降低。

发明内容

本发明的目的在于在对对象物照射光来描绘图案的描绘装置中，能够高精度地检测描绘头的劣化因素。

本发明的描绘装置具有：描绘头，其对对象物照射被空间调制后的光；保持部，其保持所述对象物，并且使所述对象物相对于所述描绘头移动，来使来自所述描绘头的光的照射区域在所述对象物上扫描；检查部，其检查所述描绘头；所述描绘头具有：光源，其射出光；空间光调制设备；照明光学系统，其将来自所述光源的光向所述空间光调制设备引导；投影光学系统，其将通过所述空间光调制设备进行空间调制后的光向所述保持部引导，所述检查部具有：光量传感器，其在位于相对于所述描绘头被决定的描绘光量测定位置时接受来自所述投影光学系统的光；传感器移动机构，其使所述光量传感器在所述描绘光量测定位置与预先决定的中间光量测定位置之间移动；采光头，其插入在从所述光源至所述空间光调制设备为止的光路上，取得从所述光源朝向所述空间光调制设备的至少一部分光；测定光学系统，其将被所述采光头取得的光向位于所述中间光量测定位置的所述光量传感器引导；采光头移动机构，其将所述采光头插入在所述光路上，另外，使所述采光头从所述光路上离开。

在该描绘装置中，能够高精度地检测描绘头的劣化因素。

在本发明的一个优选实施方式中，所述光量传感器设置在所述保持部上，从所述投影光学系统的前端至所述光量传感器的受光面为止的距离等于从所述投影光学系统的所述前端至所述对象物的表面为止的距离，所述传感器移动机构使所述保持部相对于所述描绘头移动。

在本发明的其它优选实施方式中，所述照明光学系统具有积分器，所述采光头插入在从所述积分器至所述空间光调制设备为止的光路上。

在本发明的其它优选实施方式中，从所述光源射出的光为紫外线光。

在本发明的其它优选实施方式中，所述空间光调制设备为将能够变更朝向的多个微小镜面排列在平面上的光学元件。

在本发明的其它优选实施方式中，所述光量传感器接受的来自所述测定光学系统的光的光量为，所述光量传感器接受的来自所述投影光学系统的光的光量的10％以上且100％以下。

在本发明的其它优选实施方式中，所述检查部还具有异常检测部，所述异常检测部基于所述光量传感器接受的来自所述测定光学系统的光的光量和所述光量传感器接受的来自所述投影光学系统的光的光量，检测所述描绘头是否异常。