[发明专利]强化基底的方法以及触控装置的基底在审

专利信息
申请号: 201410490832.6 申请日: 2014-09-22
公开(公告)号: CN104699292A 公开(公告)日: 2015-06-10
发明(设计)人: 黄世杰;郑国铸;黄子奕;张至馨;黄俊铭 申请(专利权)人: 胜华科技股份有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 强化 基底 方法 以及 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种强化基底的方法以及触控装置的基底,特别涉及一种利用边缘蚀刻工艺或/与边缘涂胶工艺对基底形成强化效果的方法与以此方法制造且用在触控装置的基底。

背景技术

近年来,触控感应技术迅速地发展,许多消费性电子产品例如移动电话(mobile phone)、全球定位系统(GPS navigator system)、平板电脑(tablet PC)、个人数码助理(PDA)以及笔记本计算机(laptop PC)等均有与触控功能结合的产品推出。在触控面板的结构中,位于外侧的基底(一般称为覆盖板)由于需具有高机械强度用以形成保护、覆盖或是美化对应装置的效果,故一般常以强化玻璃形成覆盖板。然而,当已完成化学强化的玻璃再进行切割等加工之后可能导致玻璃局部区域的强化层被移除或产生出不具有强化层的新表面,进而降低玻璃本身的强度,故需以其他方式再对基底形成强化的效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种强化基底的方法以及触控装置的基底,利用边缘蚀刻工艺或/与边缘涂胶工艺对基底的侧面形成强化效果,并以此方法制造用在触控装置的基底。

本发明提供一种强化基底的方法,包括下列步骤。首先,提供一第一基底,第一基底具有一侧面、一第一面以及一与第一面相反的第二面。接着,在第一基底的第一面与第二面上分别贴附一第一抗酸膜与一第二抗酸膜。然后,对贴附有第一抗酸膜以及第二抗酸膜的第一基底进行一边缘蚀刻工艺,用以对第一基底的侧面产生导角化以及强化的效果。

本发明提供一种强化基底的方法,包括下列步骤。首先,提供多个第一基底,各第一基底具有一侧面、一第一面以及一与第一面相反的第二面。接着,在各第一基底的第一面与第二面上分别贴附一第一抗酸膜与一第二抗酸膜。再接着,将贴附有第一抗酸膜以及第二抗酸膜的数个第一基底互相堆栈。然后,对贴附有第一抗酸膜以及第二抗酸膜的数个第一基底进行一边缘蚀刻工艺,用以对各第一基底的侧面产生导角化以及强化的效果。

本发明提供一种强化基底的方法,包括下列步骤。首先,提供一第一基底,第一基底具有一侧面、一第一面以及一与第一面相反的第二面。接着,在第一基底的第一面与第二面上分别贴附一第一挡墙与一第二挡墙。然后,对贴附有第一挡墙以及第二挡墙的第一基底进行一边缘涂胶工艺,用以在第一基底的侧面上形成一保护层。

本发明提供一种强化基底的方法,包括下列步骤。首先,提供多个第一基底,各第一基底具有一侧面、一第一面以及一与第一面相反的第二面。接着,在各第一基底的第一面与第二面上分别贴附一第一挡墙与一第二挡墙。再接着,将贴附有第一挡墙以及第二挡墙的数个第一基底互相堆栈。然后,对贴附有第一挡墙以及第二挡墙的数个第一基底进行一边缘涂胶工艺,用以在各第一基底的侧面上形成一保护层。

本发明提供一种强化基底的方法,包括下列步骤。首先,提供多个第一基底,各第一基底具有一侧面、一第一面以及一与第一面相反的第二面。各第一基底的第一面与第二面的至少其中一面上形成有一触控组件。接着,在每两个相邻的第一基底之间配置一个挡墙并与第一基底相互堆栈。然后,对第一基底进行一边缘蚀刻工艺,用以对第一基底的各侧面产生导角化以及强化的效果。

本发明提供一种触控装置的基底,包括一第一基底,第一基底具有一侧面、一第一面以及一与第一面相反的第二面,侧面包括一第三面、一第四面以及一第五面,第三面是与第一面相接,第五面与第二面相接,第四面设置在第三面与第五面之间。第三面与第五面其中至少一种的至少部分为弧面,且第三面、第四面与第五面其中至少一种具有齿状结构。

本发明的另外一实施例的触控装置的基底还包括一触控组件设置在第一基底上,其中触控组件设置在第一面与第二面的至少其中一面上。

在本发明的另外一实施例的触控装置的基底中,第一基底包括在侧面形成有交换离子强化层的玻璃基底。

在本发明的另外一实施例的触控装置的基底中,第三面与第一面的交界处与第四面在一水平方向上的距离或第二面与第五面的交界处与第四面在水平方向上的距离大于0.01毫米且小于0.2毫米。

在本发明的另外一实施例的触控装置的基底中,第三面与第一面的交界处与第四面在一水平方向上的距离或第二面与第五面的交界处与第四面在水平方向上的距离大于0.05毫米且小于0.1毫米。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于胜华科技股份有限公司;,未经胜华科技股份有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410490832.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top