[发明专利]透明导电膜的制程在审
申请号: | 201410493156.8 | 申请日: | 2014-09-24 |
公开(公告)号: | CN105513710A | 公开(公告)日: | 2016-04-20 |
发明(设计)人: | 李炳寰;谢文俊 | 申请(专利权)人: | 亚树科技股份有限公司 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;C23C4/12;C23C4/04;H01B5/14 |
代理公司: | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人: | 张雅军 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 透明 导电 | ||
1.一种透明导电膜的制程,该制程包含准备材料步骤:准备 一个表面设置有一层导电层的透明基材;其特征在于:该制程还包 含熔喷步骤:将一个高分子材料以熔喷方式沉积至该导电层上,并 形成一层由数条纤维构成的网状层;蚀刻导电层步骤:将该导电层 未受该网状层覆盖的部分蚀刻移除;及移除网状层步骤:移除该网 状层,并得到一片透明导电膜。
2.如权利要求1所述的透明导电膜的制程,其特征在于:每 一条纤维的直径为0.1μm~5μm。
3.如权利要求1所述的透明导电膜的制程,其特征在于:在 该蚀刻导电层步骤中,该导电层被蚀刻后所留下的部位形成数条线 条,每一条线条的宽度为0.1μm~5μm。
4.如权利要求3所述的透明导电膜的制程,其特征在于:所 述线条共同界定出数个网孔,每一个网孔的尺寸为1μm~500μm。
5.如权利要求1所述的透明导电膜的制程,其特征在于:在 该熔喷步骤中,该高分子材料沉积的时间为0.1~60分钟,且在该 移除网状层步骤中,该透明导电膜的透光率为60%以上。
6.如权利要求1所述的透明导电膜的制程,其特征在于:在 该熔喷步骤中,该高分子材料是加热至40~400℃,且用以协助喷射 的纺丝气体的流速为0.1~200SCFM。
7.如权利要求1所述的透明导电膜的制程,其特征在于:该 透明基材是以透明玻璃、透明陶瓷或透明塑胶制成。
8.如权利要求7所述的透明导电膜的制程,其特征在于:该 透明塑胶为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、 聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、环烯烃聚合物、三醋酸纤维素、聚 乙烯醇、聚酰亚胺、聚苯乙烯或上述材料的任一种组合。
9.如权利要求1所述的透明导电膜的制程,其特征在于:该 导电层为金、银、铜、镍、铝、钼、钕或上述材料的任一种组合。
10.如权利要求1所述的透明导电膜的制程,其特征在于:该 高分子材料为硅氧树脂、酚树脂、改性天然酚树脂、环氧树脂、聚 烯醇类树脂、纤维素树脂、聚烯烃类树脂、苯乙烯类树脂、压克力 树脂或上述材料的任一种组合。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于亚树科技股份有限公司,未经亚树科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410493156.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。