[发明专利]自旋处理装置有效
申请号: | 201410497873.8 | 申请日: | 2014-09-25 |
公开(公告)号: | CN104465359B | 公开(公告)日: | 2017-08-04 |
发明(设计)人: | 古矢正明 | 申请(专利权)人: | 芝浦机械电子株式会社 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;B05C13/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 胡建新,朴勇 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自旋 处理 装置 | ||
1.一种自旋处理装置,使基板旋转来进行处理,其特征在于,具备:
至少三个夹持销,分别与上述基板的外周面抵接来把持上述基板;
能够旋转的多个销旋转体,对各上述夹持销分别设置该销旋转体,该销旋转体将上述夹持销从与上述基板的旋转轴平行的该销旋转体本身的旋转轴偏心地进行保持;
多个磁齿轮,该磁齿轮按各上述销旋转体分别设置在该销旋转体的外周面上,磁极沿着上述销旋转体的旋转轴的轴方向形成为螺旋状;
多个旋转用磁铁,对各上述磁齿轮分别设置该旋转用磁铁,该旋转用磁铁被定位成与上述磁齿轮的磁极相互吸引;以及
移动机构,使上述多个旋转用磁铁沿着上述销旋转体的旋转轴的轴方向移动。
2.根据权利要求1所述的自旋处理装置,其特征在于,
上述移动机构具备:
保持部,保持上述多个旋转用磁铁,能够在上述销旋转体的旋转轴的轴方向上移动;和
升降机构,使上述保持部沿着上述销旋转体的旋转轴的轴方向移动。
3.根据权利要求2所述的自旋处理装置,其特征在于,
上述移动机构具有将上述保持部定位并使其停止的功能。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的自旋处理装置,其特征在于,
上述夹持销设置有六个,将沿着上述基板的周方向隔着一个而排列的三个上述夹持销作为一组,
上述旋转用磁铁与上述夹持销的各组分别对应地设置,
上述移动机构使上述夹持销的各组的旋转用磁铁分别按该组沿着上述销旋转体的旋转轴的轴方向移动。
5.根据权利要求4所述的自旋处理装置,其特征在于,
上述移动机构在对上述基板进行处理的过程中,使上述夹持销的各组的旋转用磁铁交替地沿着上述销旋转体的旋转轴的轴方向移动。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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