[发明专利]自旋处理装置

说明书

技术领域

本发明的实施方式涉及一种自旋(Spin)处理装置。

背景技术

通常情况下，半导体装置及液晶显示装置的制造过程中，存在在晶片及玻璃板等基板上形成电路图案的成膜工艺及光处理(Photo process)。在这些工艺中，主要在使用液体的湿法工艺中，使用自旋处理装置，对基板执行药液处理、清洁处理、干燥处理等。自旋处理装置是把持(夹持)基板的外周面，以与该基板的中心垂直的轴为旋转轴使基板旋转，并向该旋转的基板供给处理液(例如药液及纯水等)来进行湿法处理的装置。该自旋处理装置通常情况下具备夹紧基板的夹紧机构。

作为该夹紧机构，沿着基板的周方向设置有多个用于把持基板的外周部的夹持销。夹持销与旋转板及旋转轴体为一体，在旋转板上从旋转轴体的旋转轴偏心一定距离而设置。此外，在旋转轴体的下端固定有小齿轮，该小齿轮与以垂直于基板中心的轴为旋转轴的主齿轮啮合。因此，若主齿轮旋转，则各旋转轴体也旋转，各夹持销进行偏心旋转，能够通过这些夹持销来夹持基板。

除了这种齿轮方式的夹紧机构以外，还开发了磁方式的夹紧机构。在该磁方式中，在旋转轴体的下端除了前述的小齿轮以外还设置有圆形板，该圆形板具有与旋转轴体垂直的磁铁。使其他磁铁靠近该圆形板，从而圆形板的磁铁通过其他磁铁的吸引力和圆形板一起旋转，与该旋转相应地，旋转轴体旋转，夹持销进行偏心旋转。该磁方式中也与前述同样地，能够通过各夹持销夹持基板。另外，在放开夹持的情况下，使与前述的其他磁铁不同的磁铁靠近与前述的夹持位置相反侧的放开位置。

然而，在前述的齿轮方式中，夹持销的夹持动作虽然能够切实地进行，但由于齿轮的摩耗而存在产生灰尘的可能性。此外，在磁方式中，虽然不会产生灰尘，但由于圆形板的磁铁通过其他磁铁的吸引力而和圆形板一起旋转，因此彼此吸引的磁极间的距离在磁铁进行旋转时发生变化。由于磁极间的吸引力与磁极间距离的平方成反比例，因此磁极间距离越近，吸引力越急剧增大。因此，若存在磁极间距离的变动，则各夹持销的旋转容易变得不均匀，由于将多个夹持销中磁极间距离最近的1个为基准进行基板的定位，因此存在由于该销旋转的偏移而导致夹持时的基板位置偏离预定位置的情况。因此，除了抑制前述的灰尘的产生，还要求抑制夹持时的基板位置的偏移。

发明内容

本发明要解决的课题在于，提供一种能够抑制灰尘的产生及夹持时的基板位置的偏移的自旋处理装置。

本发明的实施方式的自旋处理装置，使基板旋转来进行处理，具备：至少三个夹持销，分别与上述基板的外周面抵接来把持基板；能够旋转的多个销旋转体，对各上述夹持销分别设置该销旋转体，该销旋转体将夹持销从与基板的旋转轴平行的该销旋转体本身的旋转轴偏心地进行保持；多个磁齿轮，该磁齿轮按各上述销旋转体分别设置在该销旋转体的外周面上，磁极沿着销旋转体的旋转轴的轴方向形成为螺旋状；多个旋转用磁铁，对各磁齿轮分别设置该旋转用磁铁，该旋转用磁铁被定位成与磁齿轮的磁极相互吸引；以及移动机构，使多个旋转用磁铁沿着销旋转体的旋转轴的轴方向移动。

根据上述实施方式的自旋处理装置，能够抑制灰尘的产生及夹持时的基板位置的偏移。

附图说明

图1是表示第1实施方式的自旋处理装置的概略结构的截面图。

图2是表示第1实施方式的夹紧机构的概略结构的立体图。

图3是用于说明第1实施方式的磁齿轮与旋转用磁铁的位置关系的说明图。

图4是表示第1实施方式的磁齿轮与旋转用磁铁的位置关系的俯视图。

图5是表示第1实施方式的自旋处理装置的基于所有夹持销的基板放开状态的截面图。

图6是表示第1实施方式的自旋处理装置的基于所有夹持销的基板把持状态的截面图。

图7是表示第1实施方式的自旋处理装置的基于一组夹持销的基板把持状态的截面图。

图8是表示第1实施方式的自旋处理装置的基于另一组夹持销的基板把持状态的截面图。

图9是表示第2实施方式的自旋处理装置的概略结构的截面图。

图10是用于说明第2实施方式的磁齿轮与平面磁铁的位置关系的说明图。

图11是表示第3实施方式的自旋处理装置的概略结构的截面图。

具体实施方式

(第1实施方式)

参照图1至图8说明第1实施方式。