[发明专利]覆铜积层板、印刷配线板及其使用方法有效

专利信息
申请号: 201410505175.8 申请日: 2014-09-26
公开(公告)号: CN104519657B 公开(公告)日: 2018-04-06
发明(设计)人: 森亮;徳山威吏 申请(专利权)人: 新日铁住金化学株式会社
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02;H05K3/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京千代*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 覆铜积层板 印刷 线板 及其 使用方法
【权利要求书】:

1.一种覆铜积层板,其特征在于:具备聚酰亚胺绝缘层、以及在所述聚酰亚胺绝缘层的至少一个面具备铜箔,且

所述聚酰亚胺绝缘层具备:下述的构成Ia及Ib:

Ia)热线膨胀系数为0ppm/K以上、30ppm/K以下的范围内;

Ib)根据下述数式(i):

E1=ϵ1×tanδ1...(i)]]>

此处,ε1表示借由空腔共振器微扰法的3GHz时的介电常数,Tanδ1表示借由空腔共振器微扰法的3GHz时的介电正切;

而计算的作为表示介电特性的指标的E1值小于0.009;

而且,所述铜箔具备:下述构成c:

c)与所述聚酰亚胺绝缘层接触的面的平方平均粗糙度Rq为0.05μm以上、且小于0.5μm的范围内。

2.根据权利要求1所述的覆铜积层板,其特征在于:所述3GHz时的介电常数为3.1以下,所述3GHz时的介电正切小于0.005。

3.根据权利要求1或2所述的覆铜积层板,其特征在于:所述铜箔的与所述聚酰亚胺绝缘层接触的面的算术平均高度Ra为0.2μm以下。

4.根据权利要求1或2所述的覆铜积层板,其特征在于:所述铜箔的与所述聚酰亚胺绝缘层接触的面的十点平均粗糙度Rz为1.5μm以下。

5.根据权利要求1或2所述的覆铜积层板,其特征在于:所述聚酰亚胺绝缘层在10GHz时的介电常数为3.0以下,介电正切为0.005以下。

6.一种印刷配线板,其特征在于:将如权利要求1至5中任一项所述的覆铜积层板的铜箔进行配线电路加工而成。

7.一种印刷配线板的使用方法,其特征在于:在1GHz~40GHz的范围内的频率区域内使用如权利要求6所述的印刷配线板。

8.一种印刷配线板的使用方法,其特征在于:在1GHz~20GHz的范围内的频率区域内使用如权利要求6所述的印刷配线板。

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