[发明专利]一种双核铜配合物的应用无效
申请号: | 201410519062.3 | 申请日: | 2014-10-06 |
公开(公告)号: | CN104327102A | 公开(公告)日: | 2015-02-04 |
发明(设计)人: | 张秀清;范超逸;黎燕;张淑华 | 申请(专利权)人: | 桂林理工大学 |
主分类号: | C07F1/08 | 分类号: | C07F1/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 541004 广*** | 国省代码: | 广西;45 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 双核铜 配合 应用 | ||
1.一种双核铜配合物的应用,该双核铜配合物由以下步骤制成:
(1)将1毫摩尔四氮唑-5-甲酸乙酯溶于10毫升蒸馏水中,加入1毫摩尔KOH,室温下搅拌3小时,制得溶液;
(2)往步骤(1)制得的溶液中加入0.5毫摩尔CuCl2?2H2O,室温下搅拌2小时,得到蓝色混浊液;
(3)将步骤(2)制得的蓝色混浊液过滤,得蓝色滤液,室温下自然挥发,三周后析出蓝色块状晶体,即为双核铜配合物,其分子结构图为:
;
所述双核铜配合物的分子中,配体通过环上的一个氮N1和羧基的一个氧O1以螯合形式与Cu1配位,同时,通过另一个氮N2连接Cu1A,以μ2形式参与配位;中心二价离子Cu1分别与来自一个配体羧基的氧原子O1,四氮唑环上的N1和N2A原子,以及两个水分子进行配位,配位数为五;按照Addison/Reedijk几何标准,τ = 0.049,说明配位原子在Cu1周围形成一个畸变的四方锥构型;N1、O1、O4、N2A构成四方锥的底面,第五个配位点被另一个氧原子O3占据,铜离子距离四方锥赤道平面的距离为0.0560 ?,铜离子之间的距离为4.0573 ?,赤道平面上Cu-O和Cu-N的平均键长分别是1.9809(17) ?和1.9935(2) ?,轴向位置Cu-O键长则是2.3376(17) ?,N1N2N2AN1A的平均偏离是0 ?,说明这个桥联环是共平面的,其特征在于该双核铜配合物应用于切割质粒DNA。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桂林理工大学,未经桂林理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410519062.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:空气动力汽车
- 下一篇:一种单电动机双轴输出的电传动系统