[发明专利]真空蒸镀装置用岐管

权利要求书

1.一种真空蒸镀装置用岐管，为联机式真空蒸镀装置用岐管，与以固定速度移动的被蒸镀基材相对配置，从设置在对置面上的多个喷嘴口喷出蒸镀材料，并使所述蒸镀材料附着在被蒸镀基材的表面上，

所述真空蒸镀装置用岐管的特征在于，

在单一岐管的与被蒸镀基材相对的对置面上设置有喷嘴列，所述喷嘴列沿被蒸镀基材的宽度方向隔开规定的喷嘴间距突出设置多个具有所述喷嘴口的喷出用喷嘴，并且多列所述喷嘴列沿被蒸镀基材的移动方向隔开规定间隔配置，

被蒸镀基材移动方向前方的喷嘴列的喷出用喷嘴和后方的喷嘴列的喷出用喷嘴在被蒸镀基材的移动方向上相对配置，

当喷出用喷嘴的喷嘴内径为D、喷嘴长度为L、喷嘴口的口径为D’时，

D’≥1mm，并且

在L≥9×D时满足D’≤2.7×D²/L，

在L＜9×D时满足D’≤D/3。

2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置用岐管，其特征在于，

当各喷嘴列的喷出用喷嘴的喷嘴间距为P、喷嘴口和被蒸镀基材的蒸镀距离为S时，

D’＜P＜1.11×S。

3.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置用岐管，其特征在于，与被蒸镀基材的宽度对应，在多个喷嘴列中的至少一个喷嘴列上安装有封闭塞，所述封闭塞封闭端部侧的喷出用喷嘴的喷嘴口。

4.一种真空蒸镀装置用岐管，为联机式真空蒸镀装置用岐管，与以固定速度移动的被蒸镀基材相对配置，从设置在对置面上的多个喷嘴口喷出蒸镀材料，并使所述蒸镀材料附着在被蒸镀基材的表面上，

所述真空蒸镀装置用岐管的特征在于，

在单一岐管的与被蒸镀基材相对的对置面上设置有喷嘴列，所述喷嘴列沿被蒸镀基材的宽度方向隔开规定的喷嘴间距突出设置多个具有所述喷嘴口的喷出用喷嘴，并且多列所述喷嘴列沿被蒸镀基材的移动方向隔开规定间隔配置，

相对于被蒸镀基材移动方向前方的喷嘴列的喷出用喷嘴，后方的喷嘴列的喷出用喷嘴配置在偏移1/2喷嘴间距的交错位置上，

当喷出用喷嘴的喷嘴内径为D、喷嘴长度为L、喷嘴口的口径为D’时，

D’≥1mm，并且

在L≥9×D时满足D’≤2.7×D²/L，

在L＜9×D时满足D’≤D/3。

5.根据权利要求4所述的真空蒸镀装置用岐管，其特征在于，

当各喷嘴列的喷出用喷嘴的喷嘴间距为P、喷嘴口和被蒸镀基材的蒸镀距离为S时，

D’＜P＜1.11×S。

6.根据权利要求4所述的真空蒸镀装置用岐管，其特征在于，与被蒸镀基材的宽度对应，在多个喷嘴列中的至少一个喷嘴列上安装有封闭塞，所述封闭塞封闭端部侧的喷出用喷嘴的喷嘴口。