[发明专利]一种PCB表面处理方法有效

专利信息
申请号: 201410522453.0 申请日: 2014-09-29
公开(公告)号: CN104284520B 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 黄力;邓峻;白会斌;王海燕 申请(专利权)人: 江门崇达电路技术有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/28;H05K3/40
代理公司: 深圳市精英专利事务所44242 代理人: 任哲夫
地址: 529000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 pcb 表面 处理 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及PCB生产技术领域,尤其涉及一种PCB表面处理方法。

背景技术

PCB是电子元器件的支撑体,电气连接的载体,是电子工业的重要部件之一,应用于几乎每种电子设备中,小到电子手表、计算器,大到计算机、通讯电子设备、军用武器系统等。在PCB的生产中,表面处理是PCB制造过程中的最后一道工序,用于保护PCB铜面,以保证PCB优良的可焊性。现有的表面处理方法通常有热风喷锡、化学镍金、化学银、化学锡等,以及在金手指位上镀金手指。在现有的PCB生产技术中,一个制作单元(PNL)上同时要求镀金手指及焊接位沉镍金两种不同的表面处理工艺时,金手指的制作和焊接位沉镍金是分开进行的,即先完全制作好金手指后再在焊接位沉镍金,或是先在焊接位沉镍金后再开始制作金手指,现有的流程有以下四种:1、丝印阻焊(字符)→用干膜制作外层图形→沉镍金→退膜→电金手指→成型;2、丝印阻焊(字符)→丝印抗化金油墨→沉镍金→退膜→电金手指→成型;3、丝印阻焊(字符)→电金手指→丝印抗化金油墨→沉镍金→退膜→成型;4.丝印阻焊(字符)→外层图形→电金手指→退膜→用干膜制作外层图形→沉镍金→退膜→成型。以上四种流程存在掉干膜污染金面、出现双层镍金甩金,退膜不尽、显影不净、掉抗化金油墨等品质问题,并且焊接位与金手指位之间的间距需大于0.3mm才能防止电金手指或沉镍金时对焊接位或金手指位的影响。此外,工艺流程长,生产成本高。

发明内容

本发明针对现有的PCB制作中,电金手指和沉镍金两种表面处理需完全独立进行,从而导致掉干膜污染金面、显影不净,工艺流程长等问题,提供一种可提高PCB品质且工艺流程短的PCB表面处理方法。

为实现上述目的,本发明采用以下技术方案,一种PCB表面处理方法,包括以下步骤:

S1、对PCB上的金手指位和焊接位同时进行沉镍金处理。

优选的,沉镍金处理中,沉镍药水中的Ni2+的浓度为4.6-5.2g/L,NaH2PO2的浓度为21-27g/L,pH=4.1-4.5;沉金药水中,Au的浓度为0.5-0.8g/L,Ni2+的浓度<1000ppm,Cu2+的浓度<5ppm,pH=5.5-6.5。

优选的,将沉镍层的厚度控制在4-6μm,沉金层的厚度控制在大于或等于0.05μm。

S2、在PCB上压蓝胶,并在金手指位开窗,使金手指位裸露出来。

优选的,在PCB上压蓝胶时,压蓝胶的温度为10-30℃;传送速度为0.8-0.9m/min,气压为0.5-0.8MPa。

S3、对PCB上的金手指位进行电厚金处理。

优选的,电厚金处理中,电镀液中Au的浓度为2.0-6g/L,Ni2+的浓度≤200ppm,Cu2+的浓度≤20ppm,pH为4.6-4.8,温度为33-37℃。

优选的,将金手指位上的金层厚度控制在大于或等于0.76μm。

S4、撕掉PCB上的蓝胶。

所述步骤S1前还包括:在PCB上制作阻焊层,并分别在金手指位和焊接位开窗,使金手指位和焊接位裸露出来。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明通过在金手指位和焊接位同时进行沉镍金处理,再在金手指位上继续电厚金,可缩减工艺流程,并可节省现有流程中贴干膜或涂抗电金油墨的工序,从而可避免掉干膜污染金面、退膜不干净、显影不干净、掉抗电金油墨等现象的出现及甩金问题。通过控制沉镍金处理过程中所用药水中磷的含量,及控制电厚金处理中的电镀液,可保证金手指的硬度在142HVN以上,插接2万次以上仍完好无损。通过控制压蓝胶的温度,可使蓝胶与焊接位上的沉金层紧密贴合,防止在焊接位的沉金层上电上金,又可保证焊接位的沉金层不被蓝胶污染,保持良好的可焊性。通过本发明方法在同一PCB上进行电金手指和沉镍金处理,金手指位与焊接位之间的间距可等于或小于0.3mm。

具体实施方式

为了更充分理解本发明的技术内容,下面结合具体实施例对本发明的技术方案作进一步介绍和说明。

实施例1

本实施例提供的一种PCB表面处理方法,其中包括沉镍金和电金手指两种表面处理,该方法具体包括以下步骤:

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