[发明专利]光学装置、摄像装置以及光学元件的驱动方法

权利要求书

1.一种光学装置，其包含：

第1基板和第2基板，它们相对配置，该第1基板包含设置在靠近该第2基板的表面上的第1电极，该第2基板包含设置在靠近该第1基板的表面上的第2电极；

电解质层，其被所述第1基板和所述第2基板夹持，包含含银的电沉积材料；以及

电源，其与所述第1电极和所述第2电极连接，能够经由该第1电极和第2电极对所述电解质层施加电压，在第1期间中，对该电解质层施加第1极性的直流电压，在该第1期间之后的第2期间中，对该电解质层间歇地施加所述第1极性的电压，由此能够长时间地保持刚施加所述直流电压后的所述光学装置的光透射率特性，

通过调整所述第1期间的长度、在所述第2期间施加的所述电压的周期和占空比，改变所述光学装置的长时间保持的、刚施加所述直流电压后的所述光学装置的光透射率。

2.根据权利要求1所述的光学装置，其中，

所述电源能够在所述第2期间中，对所述电解质层施加具有周期性的矩形波电压。

3.根据权利要求1所述的光学装置，其中，

所述电源能够在所述第2期间之后的第3期间中，对所述电解质层施加第2极性的直流电压，其中，所述第2极性是与所述第1极性相反的极性。

4.根据权利要求1所述的光学装置，其中，

所述光学装置还包含具有导电性的细微凹凸层，该细微凹凸层设置在所述第1电极或所述第2电极的表面。

5.一种摄像装置，其具有：具有受光面的摄像元件；与所述摄像元件的受光面相对地配置的光学元件；以及与所述光学元件电连接的电源，其中，

所述光学元件具有：

第1基板和第2基板，它们相对配置，该第1基板包含设置在靠近该第2基板的表面上的第1电极，该第2基板包含设置在靠近该第1基板的表面上的第2电极；以及

电解质层，其被所述第1基板和所述第2基板夹持，包含含银的电沉积材料，

所述电源与所述第1电极和所述第2电极连接，能够在第1期间中经由该第1电极和第2电极对所述电解质层施加第1极性的直流电压，

所述电源能够在所述第1期间之后的第2期间中，对所述电解质层间歇地施加所述第1极性的电压，由此能够长时间地保持刚施加所述直流电压后的所述光学元件的光透射率特性，

通过调整所述第1期间的长度、在所述第2期间施加的所述电压的周期和占空比，改变所述光学元件的长时间保持的、刚施加所述直流电压后的所述光学元件的光透射率。

6.一种光学元件的驱动方法，其中，该光学元件具有：

第1基板和第2基板，它们相对配置，该第1基板包含设置在靠近该第2基板的表面上的第1电极，该第2基板包含设置在靠近该第1基板的表面上的第2电极；以及

电解质层，其被所述第1基板和所述第2基板夹持，包含含银的电沉积材料，

在第1期间中，对所述电解质层施加第1极性的直流电压，在所述第1期间之后的第2期间中，对所述电解质层间歇地施加所述第1极性的电压，由此能够长时间地保持刚施加所述直流电压后的所述光学元件的光透射率特性，

通过调整所述第1期间的长度、在所述第2期间施加的所述电压的周期和占空比，改变所述光学元件的长时间保持的、刚施加所述直流电压后的所述光学元件的光透射率。