[发明专利]光学装置、摄像装置以及光学元件的驱动方法

说明书

提供光学装置、摄像装置以及光学元件的驱动方法。其中，光学装置具有第1基板和第2基板，它们相对配置，该第1基板包含设置在靠近该第2基板的表面上的第1电极，该第2基板包含设置在靠近该第1基板的表面上的第2电极；以及电解质层，其被所述第1基板和所述第2基板夹持，包含含银的电沉积材料，在第1期间中，所述电解质层被施加第1极性的直流电压，在所述第1期间之后的第2期间中，所述电解质层被间歇地施加所述第1极性的电压。

技术领域

本发明涉及包含电沉积元件的光学装置、利用该光学装置的摄像装置以及电沉积元件的驱动方法。

背景技术

在日本特开平09-331474号以及日本特开2004-170613号公报中，公开了使用电致变色元件作为光学滤光器(减光滤光器乃至调光滤光器)的摄像装置。电致变色元件是指包含通过电化学反应等使分子结构发生变化、产生显色或消色等变色的材料(电致变色材料)的元件。

在日本特开2012-181389号公报中，公开了所谓电沉积元件。电沉积元件主要包含相对配置的一对电极和被该一对电极夹持且含有电沉积材料的电解质层，该电沉积材料含有银。

在通常时(不施加电压时)，电解质层大致透明，电沉积元件为透明状态。当在一对电极之间施加电压时，由于电化学反应，电解质层的电沉积材料(银)析出/沉积在电极上。由此，电沉积元件成为镜面状态。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种包含电沉积元件且能够控制该电沉积元件的光透射率的光学装置。

根据本发明的一个观点，提供一种光学装置，其具有：第1基板和第2基板，它们相对配置，该第1基板包含设置在靠近该第2基板的表面上的第1电极，该第2基板包含设置在靠近该第1基板的表面上的第2电极；电解质层，其被所述第1基板和所述第2基板夹持，包含含银的电沉积材料；以及电源，其与所述第1电极和所述第2电极连接，能够经由该第1电极和第2电极对所述电解质层施加电压，在第1期间中，对该电解质层施加第1极性的直流电压，在该第1期间之后的第2期间中，对该电解质层间歇地施加所述第1极性的电压。

根据本发明的其它观点，提供一种摄像装置，其具有：具有受光面的摄像元件；与所述摄像元件的受光面相对地配置的光学元件；以及与所述光学元件电连接的电源，其中，所述光学元件具有：第1基板和第2基板，它们相对配置，该第1基板包含设置在靠近该第2基板的表面上的第1电极，该第2基板包含设置在靠近该第1基板的表面上的第2电极；以及电解质层，其被所述第1基板和所述第2基板夹持，包含含银的电沉积材料，所述电源与所述第1电极和所述第2电极连接，能够在第1期间中经由该第1电极和第2电极对所述电解质层施加第1极性的直流电压。

根据本发明又一观点，提供光学元件的驱动方法，该光学元件具有：第1基板和第2基板，它们相对配置，该第1基板包含设置在靠近该第2基板的表面上的第1电极，该第2基板包含设置在靠近该第1基板的表面上的第2电极；以及电解质层，其被所述第1基板和所述第2基板夹持，包含含银的电沉积材料，其中，在第1期间中，对所述电解质层施加第1极性的直流电压，在所述第1期间之后的第2期间中，对所述电解质层间歇地施加所述第1极性的电压。

附图说明

图1A是示出包含电沉积元件1的光学装置的基本结构的剖视图。图1B是示出对电沉积元件1施加了规定时间的电压时、电沉积元件1的光透射率的波长关联性的曲线图。

图2A是示出由电源2对电沉积元件1施加的电压波形的曲线图。图2B是示出对电沉积元件1施加了规定时间的电压后、电沉积元件1的光透射率的时间变化的曲线图。

图3A是示出包含电沉积元件1a的光学装置的剖视图。图3B是示出对电沉积元件1a施加了规定时间的电压时、电沉积元件1a的光透射率的波长关联性的曲线图。

图4是示出摄像装置3的结构例的概略图。

具体实施方式