[发明专利]一种掩膜框架、掩膜板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201410540132.3 申请日: 2014-10-13
公开(公告)号: CN104298069A 公开(公告)日: 2015-01-21
发明(设计)人: 吴海东;金泰逵;白娟娟;马群 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: G03F1/64 分类号: G03F1/64
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 框架 掩膜板 及其 制作方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及掩膜板技术领域,尤其涉及一种掩膜框架、掩膜板及其制作方法。

背景技术

在显示器的制作过程中,经常通过构图工艺形成图案化的层结构。构图工艺通常包含:在薄膜上涂光刻胶,利用掩膜板对所述光刻胶进行曝光、显影、刻蚀等步骤,以使得薄膜形成与掩膜板相同或相反的图案。

如图1、图2所示为用于形成像素单元的掩膜板,包括矩形的掩膜框架10和多个掩膜条20(即掩膜条a-掩膜条i)。掩膜条20上包括多个像素图案,掩膜条20相对的两端分别有焊接点21,掩膜条20沿101方向焊接在掩膜框架10上。为了防止掩膜条变形中间部位下垂、变形,造成掩膜图案形状差异和位置偏离,导致显示面板出现色偏、混色等显示不良,如图2所示,在将掩膜条20焊接在掩膜框架10的过程中,需要给掩膜条20一个拉伸力F1,同时给掩膜框架10一个挤压力F2,以保证焊接完成后掩膜条20维持拉伸时的形状。然而,掩膜框架10在变形收缩过程中,不同位置处对掩膜条20的拉伸力不均,一般掩膜框架10在沿掩膜条20排布方向即101方向的中间位置处对掩膜条20的拉伸力较小,如图1所示的虚线,进而造成位于掩膜框架10中间位置处的像素图案与其相对两侧位置处的像素图案之间仍然存在形状差异和位置偏离。

发明内容

本发明的实施例提供一种掩膜框架、掩膜板及其制作方法,解决了现有的掩膜条在掩膜板的不同位置处拉伸力不均的问题。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

第一方面,本发明实施例提供了一种掩膜框架,包括框架主体、弹性装置以及位于框架主体相对的两侧的两个固定部,每个所述固定部通过所述弹性装置与所述框架主体连接固定。

第二方面,本发明实施例提供了一种掩膜板,包括多个掩膜条以及本发明实施例提供的任一所述的掩膜框架,所述掩膜条相对的两端分别与位于框架主体相对的两侧的固定部固定。

第三方面,本发明实施例提供了一种掩膜板的制作方法,包括:挤压固定部,弹性装置发生弹性形变以使得所述固定部靠近框架主体,将掩膜条与所述固定部连接固定,取消挤压。

本发明实施例提供的一种掩膜框架、掩膜板及其制作方法,所述掩膜框架,包括框架主体、弹性装置以及位于框架主体相对的两侧的两个固定部,每个固定部分别通过弹性装置与框架主体连接固定,当框架主体用于支撑掩膜条,将掩膜条与固定部固定时,可以是仅通过挤压固定部,弹性装置发生弹性形变以使得固定部靠近掩膜框架,进而使得将掩膜条与固定部固定。固定连接后,取消对固定部的挤压,为了恢复原状,弹性装置对固定部产生使得固定部远离框架主体的弹力,进而对固定在固定部上的掩膜条以拉伸力,防止掩膜条变形中间部位下垂,造成显示面板出现色偏、混色等不良;且弹性装置可以均衡各个掩膜条所受到的拉伸力,使得固定在不同位置处的掩膜条所受到的拉伸力趋向均匀,进而可以提高形成的掩膜图案的精度,改善由于掩膜图案偏离造成的色偏、混色等显示不良。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中的掩膜板示意图;

图2为现有技术固定掩膜条的示意图;

图3为本发明实施例提供的一种掩膜框架示意图;

图4为本发明实施例提供的另一种掩膜框架示意图;

图5为本发明实施例提供的一种掩膜板示意图。

附图标记:

10-掩膜框架;11-框架主体;12-固定部;13-弹性装置;20-掩膜条;21-焊接点。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。

本发明实施例提供了一种掩膜框架,如图3所示,包括框架主体11、弹性装置13以及位于框架主体11相对的两侧的两个固定部12,每个固定部12通过弹性装置13与框架主体11连接固定。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410540132.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top