[发明专利]薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜及其制造方法

权利要求书

1.一种薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜，其特征在于：由 绝缘层(1)、电磁波吸收层(2)、电磁波屏蔽层(3)、导电胶 粘层(4)和离型膜(5)依次叠合构成。

2.如权利要求1所述的薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜， 其特征在于：所述绝缘层是高分子材料膜，所述电磁波吸收层 是软磁层，所述电磁波屏蔽层金属层，所述导电胶粘层是含氟 导电胶粘层。

3.如权利要求2所述的薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜， 其特征在于：所述绝缘层的厚度是3-75微米，所述电磁波吸 收层是溅镀层且厚度为0.1-25微米，所述电磁波屏蔽层是溅 镀层且厚度为0.1-70微米，所述导电胶粘层的厚度为8-60微 米，所述离型膜的厚度为25-100微米。

4.如权利要求3所述的薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜， 其特征在于：所述绝缘层为由聚酯、聚胺脂、环氧树脂、聚对 环二甲苯系树脂、双马来酰亚胺系树脂和聚酰亚胺树脂中的至 少一种所制备的高分子膜。

5.如权利要求4所述的薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜， 其特征在于：所述绝缘层中含有色母添加物。

6.如权利要求3所述的薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜， 其特征在于：所述电磁波吸收层是氧化铁层、铁硅铝合金层、 坡莫合金层和铁硅铬镍合金层中的一种。

7.如权利要求3所述的薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜， 其特征在于：所述电磁波屏蔽层是金属A_g、Cu、Zn、Ni和Al 中的一种的金属箔或者多种的合金箔。

8.如权利要求3所述的薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜， 其特征在于：所述电磁波屏蔽层的厚度为0.1-3微米。

9.如权利要求3所述的薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜， 其特征在于：所述导电胶粘层为含有金属导电粒子和氟添加物 的树脂层，树脂材料采用环氧树脂、丙烯酸系树脂、胺基甲酸 酯系树脂、硅橡胶系树脂、聚对环二甲苯系树脂、双马来酰亚 胺系树脂和聚酰亚胺树脂中的至少一种。

10.如权利要求3所述的薄型化高传输电磁吸收屏蔽膜， 其特征在于：所述离型膜为PET氟塑离型膜、PET含硅油离 型膜、PET亚光离型膜和PE离型膜中的一种。

11.一种如权利要求1至10中任一项所述的薄型化高传 输电磁吸收屏蔽膜的制造方法，其特征在于：按下述步骤进行：

步骤一：以所述绝缘层为基材，在其表面采用溅镀方式镀 上一层具有吸波特性的磁性材料构成所述电磁波吸收层；

步骤二：在所述电磁波吸收层上再溅镀上一层具有电磁波 屏蔽特性的金属层构成所述电磁波屏蔽层；

步骤三：在所述电磁波屏蔽层上涂布上所述导电胶粘层， 并且在所述导电胶粘层上贴合所述离型膜。