[发明专利]光学防伪元件及光学防伪产品

权利要求书

1.一种光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件包括：

基材；

形成于所述基材上表面的亚波长表面微结构和光学反射小面；以及

形成于所述亚波长表面微结构和光学反射小面上的相同的多层结构镀层，其中所述亚波长表面微结构和光学反射小面上的多层结构镀层在同一工艺过程中同时形成，且所述亚波长表面微结构与多层结构镀层所在的区域与所述光学反射小面与多层结构镀层所在的区域形成具有反差的光学特征；

并且，所述具有反差的光学特征包括：颜色特征的反差；以及光学反射小面同其表面覆盖的多层结构镀层所在的区域相较于亚波长表面微结构同其表面覆盖的多层结构镀层所在的区域具有相对向前和/或向后突出的表面。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述亚波长表面微结构和所述光学反射小面部分重叠。

3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述多层结构镀层形成法布里-泊罗谐振腔。

4.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述多层结构镀层形成镂空图案。

5.根据权利要求4所述的光学防伪元件，其特征在于，所述镂空图案与所述亚波长表面微结构和/或所述光学反射小面具有对位关系。

6.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述亚波长表面微结构为一维光栅或二维光栅；所述亚波长表面微结构的槽型为正弦形、矩形、锯齿形、或者正弦形、矩形和锯齿形中至少两者的拼接或组合。

7.根据权利要求6所述的光学防伪元件，其特征在于，所述亚波长表面微结构的槽深为10nm-500nm。

8.根据权利要求7所述的光学防伪元件，其特征在于，所述亚波长表面微结构的槽深为50nm-300nm。

9.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述亚波长表面微结构在所述亚波长表面微结构所在的二维平面内的特征尺寸为50nm-500nm。

10.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其特征在于，所述亚波长表面微结构在所述亚波长表面微结构所在的二维平面内的特征尺寸为200nm-400nm。

11.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述光学反射小面在所述光学反射小面所在的二维平面上的至少一个维度上的特征尺寸在1μm-300μm之间。

12.根据权利要求11所述的光学防伪元件，其特征在于，所述光学反射小面在所述光学反射小面所在的二维平面上的至少一个维度上的特征尺寸在3μm-100μm之间。

13.根据权利要求12所述的光学防伪元件，其特征在于，所述光学反射小面在所述光学反射小面所在的二维平面上的至少一个维度上的特征尺寸在5μm-30μm之间。

14.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，在所述基材、所述亚波长表面微结构以及所述光学反射小面中的至少一者上形成衍射光变特征、微纳结构特征、印刷特征、荧光特征以及用于机读的磁、光、电、放射性特征中的至少一种。

15.根据权利要求1-14任意一项所述的光学防伪元件，其特征在于，多层结构镀层由吸收层、介质层、以及反射层中的至少两者组成，或者多层结构镀层由介质层组成。

16.一种光学防伪产品，其特征在于，该光学防伪产品包括根据权利要求1-15中任一项所述的光学防伪元件。