[发明专利]光学防伪元件及光学防伪产品

说明书

技术领域

本发明涉及光学防伪领域，具体地，涉及一种光学防伪元件以及光学防伪产品。

背景技术

为了防止伪造钞票、证件和产品包装等各类高安全或高附加值印刷品，广泛采用了多层结构镀层技术。多层结构镀层技术能够呈现各种颜色特征或在不同的观察角度下能够呈现不同的颜色，并且无法利用照相机、扫描仪、打印机等电子设备模仿或复制，所以具有较高的防伪能力。但是，单纯采用多层镀层技术已经不能很好地满足防伪领域的需求。

现有技术中，通过在光变结构中增加一层磁性层就形成了光变磁性油墨 (OVMI)，通过磁场诱导使得OVMI颗粒能够沿磁感线方向定向排布，从而形成特定的图文结构。但是由于光变磁性颗粒的定向排布需要依靠磁场，故受到磁场形状的制约，不能对形状进行任意设计，且需要特定的定向设备与工艺。另外采用干涉型多层镀层与全息、颜色配对等技术相结合的技术集成方式工艺较复杂，且效果不够理想，对干涉型多层镀层防伪能力的提升仍然有限。

发明内容

本发明的目的是提供一种光学防伪元件以及光学防伪产品，以提高产品的防伪性能。

本发明提供了一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括：基材；

形成于所述基材上表面的亚波长表面微结构和光学反射小面；以及形成于所述亚波长表面微结构和光学反射小面上的多层结构镀层。

优选地，所述亚波长表面微结构和所述光学反射小面部分重叠。

优选地，所述多层结构镀层形成法布里-泊罗谐振腔。

优选地，所述多层结构镀层形成镂空图案。

优选地，所述镂空图案与所述亚波长表面微结构和/或所述光学反射小面具有对位关系。

优选地，所述亚波长表面微结构为一维光栅或二维光栅；所述亚波长表面微结构的槽型为正弦形、矩形、锯齿形、或者正弦形、矩形和锯齿形中至少两者的拼接或组合。

优选地，所述亚波长表面微结构的槽深为10nm-500nm。

优选地，所述亚波长表面微结构的槽深为50nm-300nm。

优选地，所述亚波长表面微结构在所述亚波长表面微结构所在的二维平面内的特征尺寸为50nm-500nm。

优选地，所述亚波长表面微结构在所述亚波长表面微结构所在的二维平面内的特征尺寸为200nm-400nm。

优选地，所述光学反射小面在所述光学反射小面所在的二维平面上的至少一个维度上的特征尺寸在1μm-300μm之间。

优选地，所述光学反射小面在所述光学反射小面所在的二维平面上的至少一个维度上的特征尺寸在3μm-100μm之间。

优选地，所述光学反射小面在所述光学反射小面所在的二维平面上的至少一个维度上的特征尺寸在5μm-30μm之间。

优选地，在所述基材、所述亚波长表面微结构以及所述光学反射小面中的至少一者上形成衍射光变特征、微纳结构特征、印刷特征、荧光特征以及用于机读的磁、光、电、放射性特征中的至少一种。

优选地，多层结构镀层由吸收层、介质层、以及反射层组成。

本发明提供了一种光学防伪产品，该光学防伪产品包括所述的光学防伪元件。

本发明在采用相同的多层结构镀层的情况下，亚波长表面微结构与多层结构镀层所在的区域与光学反射小面与多层结构镀层所在的区域形成了具有反差的光学特征，从而使该光学防伪元件或带有该防伪元件的光学防伪产品容易被识别且具有较强的防伪能力。

本发明的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1为根据本发明一个实施方式的光学防伪元件的剖面图；

图2(a)和图2(b)为根据本发明另一实施方式的光学防伪元件的剖面图；

图3为根据本发明又一实施方式的光学防伪元件的剖面图；

图4为根据本发明又一实施方式的光学防伪元件的俯视图。

附图标记说明

101基材102上表面

103多层结构镀层1021 亚波长表面微结构

1022 光学反射小面1022’曲面

1光学防伪元件

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。