[发明专利]防尘薄膜组件有效
申请号: | 201410562748.0 | 申请日: | 2014-10-21 |
公开(公告)号: | CN104570590B | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 关原一敏 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇;王博 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防尘 薄膜 组件 | ||
1.一种防尘薄膜组件,其为至少一对边长是大于500mm的矩形的防尘薄膜组件,其特征在于:仅在一个方向的一对相对边的以边中心为中心的边长的40~80%的区域,该防尘薄膜组件的框架的宽度通过使框架的内侧壁凹陷而变细,并且该变细的区域的框架宽度为从3mm以上6mm以下选择的一定值。
2.如权利要求1所述的防尘薄膜组件,其特征在于,从上述框架的宽度细的部位的两端到相邻边或者一直到相对边的相同部位连接有加强构件。
3.如权利要求2所述的防尘薄膜组件,其特征在于,在上述加强构件的光掩模侧的表面未设置光掩模粘合层,在防尘薄膜组件粘贴之后,上述加强构件呈从光掩模表面分离的状态。
4.如权利要求2或3所述的防尘薄膜组件,其特征在于,上述加强构件的防尘薄膜侧的表面与框架的防尘薄膜侧的表面处于同一平面上,并且,在该表面上设有防尘薄膜胶粘层,粘贴有防尘薄膜。
5.如权利要求2~3中任一项所述的防尘薄膜组件,其特征在于,上述加强构件与框架一体地加工。
6.如权利要求2~3中任一项所述的防尘薄膜组件,其特征在于,上述加强构件的截面形状为在光掩模侧具有顶点的三角形状或光掩模侧的表面宽度变窄的梯形状。
7.如权利要求1~3中任一项所述的防尘薄膜组件,其特征在于,光掩模粘合层在防尘薄膜组件整周上以相同的宽度设置,并且,沿着框架外周形状而配置。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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