[发明专利]一种超声辅助制备CdS薄膜的方法无效
申请号: | 201410563951.X | 申请日: | 2014-10-22 |
公开(公告)号: | CN104372340A | 公开(公告)日: | 2015-02-25 |
发明(设计)人: | 褚君浩;孙雷;马建华;姚娘娟;江锦春 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | C23C26/00 | 分类号: | C23C26/00;H01L31/0296 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 超声 辅助 制备 cds 薄膜 方法 | ||
技术领域
本发明涉及薄膜太阳能电池制造技术中的CdS薄膜制备工艺,具体为一种使用超声辅助制备CdS薄膜的方法。
背景技术
CdS是一种带隙宽度为2.42eV的直接带隙n型半导体材料。在CuIn1-xGaxSe2(CIGS)薄膜太阳能电池中,CdS被用作低带隙CIGS吸收层和高带隙ZnO窗口层之间的缓冲层,减小了两者之间的带隙台阶和晶格失配。同时,n型的CdS层和ZnO层与p型的CIGS层组成了p-n结,从而构成了太阳能电池的核心结构。CdS层的成膜质量对于太阳能电池性能具有重要影响。
化学水浴法(chemical bath deposition,CBD)是目前使用最广泛的CdS薄膜制备方法,其具有工艺简单、成本低廉、所生长的CdS薄膜相对致密均匀等优点。CBD中使用的反应溶液通常是由镉盐、硫脲、氨水按一定比例配成的碱性溶液,其反应原理为:
(1)溶液中的自由Cd2+同NH3结合成Cd(NH3)42+,聚集在衬底附近;
Cd2++4NH3→Cd(NH3)42+。
(2)在衬底表面上发生Cd(OH)2的可逆吸附过程(site是衬底表面的吸附空位,abs是吸附配位数,n取值1~4);
Cd(NH3)n2++2OH-+site→[Cd(OH)2]abs+nNH3。
(3)Cd(OH)2与硫脲发生吸附,产生亚稳定态Cd(OH)2SC(NH2)2络合物;
[Cd(OH)2]abs+SC(NH2)2→[Cd(OH)2SC(NH2)2]abs。
(4)Cd(OH)2SC(NH2)2分解产生CdS,在衬底表面形成薄膜的同时重新产生一个吸附空位。
[Cd(OH)2SC(NH2)2]abs→CdS+CN2H2+2H2O+site。
目前CBD的一般步骤为:1)在反应容器中配制反应溶液;2)将衬底浸入反应液中,并将反应容器放入水浴中;3)水浴保持一定温度,并使用搅拌棒搅动反应溶液,在衬底表面沉积CdS薄膜;4)取出衬底后,使用超纯水冲洗。
现有CdS薄膜CBD制备方法存在的主要问题为:1)含有氨水的反应液在搅拌过程中容易产生气泡并吸附于衬底表面,从而导致CdS薄膜中孔洞的产生;2)在反应过程中,反应液中会产生CdS大颗粒并沉积于衬底表面,使得CdS薄膜的均匀性降低。
为解决上述问题,目前已有一些专利使用超声或机械振动来改进CdS薄膜化学水浴制备方法。专利CN101989633B提出在CdS薄膜化学水浴沉积之后,将衬底放入去离子水进行10-30min的超声处理,去除表面吸附的CdS颗粒和其他杂质。但此方法只能去除部分吸附力较差的颗粒,并且无法避免反应过程中吸附于衬底表面的气泡导致的孔洞,也无法减少反应过程中CdS团簇颗粒在衬底表面的沉积。专利CN103232060A提到在CdS薄膜沉积过程中振动反应槽或者敲打反应槽外壁,驱除衬底表面气泡,并且减小CdS团簇颗粒的大小。但该方法通过敲打产生振动的方式效率低下且重复性不好,对CdS成膜品质改进幅度有限。
发明内容
基于已有技术存在的问题,本发明的目的是要提供一种超声辅助制备CdS薄膜的方法,该方法是在薄膜生长过程中直接对衬底施加超声振动,以减少现有制备方法在CdS薄膜中形成的孔洞和表面沉积的颗粒,从而制备出更加均匀致密的CdS薄膜,提高薄膜太阳能电池效率。该方法还可同时进行多个衬底的CdS薄膜沉积,提高工作效率。
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