[发明专利]一种可见光减反射膜玻璃及制造方法

权利要求书

1.一种可见光减反射膜玻璃，包括有玻璃基片(1)，在所述的玻璃基片(1)的复合面上由内到外依次相邻地复合有七个膜层，其特征在于：其中第一膜层即最内层为Al₂O₃层(21)，第二层为ZrO₂层(22)，第三层为Al₂O₃层(23)，第四层为ZrO₂层(24)，第五层为Al₂O₃层(25)，第六层为ZrO₂层(26)，最外层为MgF₂层(27)。

2.根据权利要求1所述的金属反射镜，其特征在于所述第一膜层的Al₂O₃层(21)的厚度为140～160nm。

3.根据权利要求1所述的可见光减反射膜玻璃，其特征在于所述第二膜层的ZrO₂层(22)的厚度为280～320nm。

4.根据权利要求1所述的可见光减反射膜玻璃，其特征在于所述第三膜层的Al₂O₃层(23)的厚度为140～160nm。

5.根据权利要求1所述的可见光减反射膜玻璃，其特征在于所述第四层ZrO₂层(24)的厚度为280～320nm。

6.根据权利要求1所述的可见光减反射膜玻璃，其特征在于所述第五层Al₂O₃层(25)的厚度为140～160nm。

7.根据权利要求1所述的可见光减反射膜玻璃，其特征在于所述第六层ZrO₂层(26)的厚度为280～320nm。

8.根据权利要求1所述的可见光减反射膜玻璃，其特征在于所述最外层MgF₂层(27)的厚度为120～140nm。

9.一种制造权利要求1-8任意一项所述的可见光减反射膜玻璃的方法，其特征在于包括如下步骤：

(1)磁控溅射Al₂O₃层，用直流电源溅射铝靶，用氧气做反应气体，氩氧比为1:2；

(2)磁控溅射ZrO₂层，用直流电源溅射镉靶，用氧气做反应气体，氩氧比为1:3；

(3)磁控溅射Al₂O₃层，用直流电源溅射铝靶，用氧气做反应气体，氩氧比为1:2；

(4)磁控溅射ZrO₂层，用直流电源溅射镉靶，用氧气做反应气体，氩氧比为1:3；

(5)磁控溅射Al₂O₃层，用直流电源溅射铝靶，用氧气做反应气体，氩氧比为1:2；

(6)磁控溅射ZrO₂层，用直流电源溅射镉靶，用氧气做反应气体，氩氧比为1:3；

(7)镀制MgF₂层，采用离子蒸发法镀制MgF₂。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于步骤(7)包括如下步骤：

(71)打开真空室阀门，对真空室放大气，做镀膜前的准备工作，将前步骤(6)工序镀好膜的工件放进镀膜机，添加膜料，换监控片，换离子源灯丝，清洁镀膜室；

(72)关真空室门，打开基片架公转，开机械泵，开低阀阀门，对真空室抽低真空，当真空室的压力达到5Pa时，关低阀阀门，开预阀阀门，对真空室抽高真空，同时打开烘烤；

(73)当真空室的气压达到预期压力时，开始熔料、除气；

(74)选择手动模式进行预融料，熔料前，打开电子枪高压，然后开辐射，用手持盒上的按键调整电子枪束流，由于不同的膜料熔点不同，束流也不同，选择合适的电子枪蒸发功率，使膜料充分除气，蒸镀时真空室的压力才能保持稳定；

(75)镀膜前打开离子源电源轰击5分钟；

(76)按照设计的膜系，采用晶控的方法控制膜层厚度140nm；

(77)蒸镀过程结束后关闭电子枪和高压阀，等到基片温度自然降温至60度左右时放气，取出工件。