[发明专利]一种取向膜检测机有效
申请号: | 201410567589.3 | 申请日: | 2014-10-22 |
公开(公告)号: | CN104317077B | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 井杨坤;陈传辉;顾二兴;姚利利 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1337 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 柴亮,张天舒 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 取向 检测 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,具体地,涉及一种取向膜检测机。
背景技术
在薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,以下简称为TFT LCD)的阵列基板和彩膜基板上分别设置有取向膜,取向膜上设置有沿一定方向的沟槽,用于使液晶分子在无电场影响的情况下沿沟槽方向排列。
一般情况下,通过包裹在摩擦辊轮上的摩擦布对涂覆并固化在玻璃基板上的聚酰亚胺(Polyimide,以下简称为PI)膜进行摩擦,在PI膜表面获得具有沿预定方向的沟槽,使PI膜成为具有取向功能的取向膜。
在制备取向膜的过程中,由于摩擦布可能存在的缺陷,如摩擦布厚度不均匀、表面粘附有异物或织染过程中的杂质等,会使得制备出的取向膜上的沟槽的方向、形状及深度等产生偏差(即Rubbing mura),进而影响取向性能。因此,在将取向膜制备完成之后,需要对取向膜上的沟槽是否存在缺陷进行检测。
在现有技术中,一般通过下述方法检测取向膜上的沟槽是否存在缺陷:蒸汽喷头(一般由检测者手持)向玻璃基板的取向膜表面喷射水蒸气,使沟槽的表面产生水珠微粒;同时,使用强光灯照射取向膜上喷射水蒸气的区域,由人眼目视观察沟槽在强光灯照射下的情况(光线穿过沟槽的缺陷处时会产生漫反射),判断取向膜上的沟槽是否存在缺陷(一般为亮线,即线状Mura)。
在检测出取向膜上的沟槽存在缺陷时,一般通过标尺测量出沟槽缺陷所在的位置,经过人工换算后,找出导致该沟槽缺陷产生的摩擦布上的缺陷所在的大概位置,对该摩擦布缺陷所在的区域进行修复;而后,再次进行摩擦工艺,通过上述的蒸汽检测方法检测取向膜上是否仍然存在上述沟槽缺陷,进而确定是否消除摩擦布缺陷。
在实际中,上述蒸汽检测方法存在以下问题:
其一,在喷射到玻璃基板及取向膜表面的水蒸气附着在玻璃基板及取向膜表面,产生水珠微粒的同时,由于空气流动、蒸发等因素,水珠微粒也会不断地散去,使得检测过程中需要长时间持续的喷射蒸汽,并导致效率较低。
其二,使用人工检测取向膜上的沟槽是否存在缺陷,使检测的效率较低;并且,不同检测者人眼检测的尺度很难统一,还会使检测结果的可信度不高。
其三,由于蒸汽喷头由检测者手持,在玻璃基板及取向膜较大的情况下,有些位置蒸汽喷头“够不到”,导致无法对取向膜上一些区域的沟槽是否存在缺陷进行检测。
其四,蒸汽喷头一般直接连接被加热的水箱,在水箱中的水位较高的情况下,部分水箱中的水珠会穿过蒸汽喷头溅射到取向膜上,从而影响后续工艺,导致不良影响。
其五,随着TFT LCD的分辨率不断提高,要求取向膜上的沟槽也越来越小,由于玻璃基板及取向膜表面产生的水珠微粒的均一度较低,以及人眼观察的局限性,上述蒸汽检测方法不能满足用于高分辨率TFT LCD中的取向膜的检测的需要。
并且,由于上述蒸汽检测方法为人工检测,在检测出取向膜上的沟槽缺陷后,一般情况下,无法通过人工换算准确地得出摩擦布上缺陷存在的位置,从而可能导致通过一次定位和修复工艺无法消除摩擦布上的缺陷,这样就需要进行多次工艺,若多个工艺仍然无法消除摩擦布上的缺陷,就必须更换新的摩擦布;从而需要耗费大量的人力物力,并降低产线的稼动率。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种蒸汽检测机取向膜检测机,其可以提高检测效率,以及提高检测结果的准确性和可信度采用机器视觉检测机构自动检测取向膜的沟槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置,提高检测的效率及检测结果的可信度,以及提高基板及取向膜表面形成水珠微粒的速度,从而进一步提高检测效率。
为实现本发明的目的而提供一种取向膜检测机,用于检测取向膜上的沟槽是否缺陷,所述取向膜检测机包括蒸汽供给机构及可密封的腔室;所述蒸汽供给机构用于向所述腔室中输入蒸汽;所述腔室用于在其内部放置设有需要检测的取向膜的基板;所述腔室的至少一部分腔壁为透明壁。
其中,所述取向膜检测机还包括机器视觉检测机构;所述机器视觉检测机构透过腔室的透明壁对所述腔室中的基板及取向膜进行成像,并根据所采集的图像自动检测取向膜上的沟槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置。
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