[发明专利]彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：彩膜基板主体以及形成在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，所述催化剂薄膜层图形能够增大封框胶在被紫外光照射时的固化速度；

所述彩膜基板主体包括基底以及形成在所述基底上的彩膜滤光层图形和黑矩阵层图形；所述催化剂薄膜层图形具体形成在所述黑矩阵层图形上用于设置封框胶的区域；

所述催化剂薄膜层图形包含有用于将紫外光转换成红外光的光转换材料。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述光转换材料为半导体光转换材料或者量子点。

3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述半导体光转换材料包括卤氧化镧以及掺杂在所述卤氧化镧中的钕、镱三价离子；所述量子点为锡化镉或者硫化镉。

4.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

形成彩膜基板主体；

在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形；所述催化剂薄膜层图形能够增大封框胶在被紫外光照射时的固化速度；

所述形成彩膜基板主体，包括：

在基底上形成彩膜滤光层图形和黑矩阵层图形；

所述在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，包括：

在所述黑矩阵层图形上用于设置封框胶的区域形成催化剂薄膜层图形；

所述在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，包括：

采用包含有用于将紫外光转换成红外光的光转换材料的材料形成催化剂薄膜层图形。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述在所述彩膜基板主体上用于设置封框胶的区域的催化剂薄膜层图形，包括：

在所述彩膜基板主体上上沉积催化剂薄膜层；

对沉积的催化剂薄膜进行图案化得到催化剂薄膜层图形。

6.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述光转换材料为半导体光转换材料或者量子点。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述半导体光转换材料包括卤氧化镧以及掺杂在所述卤氧化镧中的钕、镱三价离子；所述量子点为锡化镉或者硫化镉。

8.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供如权利要求1-3任一项所述的彩膜基板；

在所述彩膜基板上涂覆封框胶；

将阵列基板与彩膜基板对盒封装；

使用紫外光从阵列基板朝向彩膜基板的方向对封框胶进行照射。

9.一种显示面板，包括如权利要求1-3任一项所述的彩膜基板。

10.一种显示装置，包括如如权利要求9所述的显示面板。