[发明专利]一种双模一体化红外面阵电控液晶微透镜芯片有效
申请号: | 201410577244.6 | 申请日: | 2014-10-24 |
公开(公告)号: | CN104298025B | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 张新宇;罗俊;佟庆;雷宇;桑红石;张天序;谢长生 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/133;G02F1/29;G01J3/12 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 朱仁玲 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 双模一体化 电控液晶 红外面阵 微透镜 平板电极 电隔离层 液晶定向层 微光 芯片 图案化电极层 点阵 光电机械 红外光学 结构耦合 驱控信号 输入端口 液晶夹层 红外波 可执行 上下层 液晶层 电控 成形 调变 光场 孔阵 | ||
本发明公开了一种双模一体化红外面阵电控液晶微透镜芯片,包括双模一体化红外面阵电控液晶微透镜和驱控信号输入端口,双模一体化红外面阵电控液晶微透镜为m×n元,其中,m、n均为大于1的整数,双模一体化红外面阵电控液晶微透镜采用液晶夹层结构,且上下层之间顺次设置有第一基片、第一平板电极层、第一电隔离层、图案化电极层、第二电隔离层、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、第三电隔离层、第二平板电极层、第二基片,第一平板电极层和第二平板电极层分别固定在第一基片和第二基片上。本发明结构紧凑,可执行微光点阵或微光孔阵红外波场的电控成形与调变,控制精度高,易与常规红外光学光电机械结构耦合,光场适应性好。
技术领域
本发明属于红外波束精密测量与控制技术领域,更具体地,涉及一种双模一体化红外面阵电控液晶微透镜芯片。
背景技术
迄今为止,通过汇聚或发散微透镜阵列对红外波束进行整形变换这一技术,已在多个领域获得应用。典型的如基于汇聚微透镜阵列对光束进行汇聚式压缩,构建高能态微点、微线或微斑阵的基准源;基于发散微透镜阵列对光束进行发散排布,构建微点光孔、微线光孔或微面光孔阵的图案化基准辐射场源;集成红外汇聚微透镜阵列与光敏芯片,提高光敏响应的信噪比、感光视场并降噪;集成红外发散微透镜阵列与光敏芯片,构建抗强辐照的红外成像探测效能增强;基于微透镜阵列对激光束进行低能耗阵列化分割与整形来构建激光波束阵,基于汇聚微透镜阵列获得多重多姿态目标图像等。随着应用领域的扩展和技术水平的提升,构建通过单一光学架构进行阵列化可调变光汇聚、光发散处理,并具备通过快速切换完成汇聚与发散模态转换的阵列化微透镜技术,对提高技术适应性、提升控光效能、扩大适用范围、增强灵活性、提高与其他红外光学光电机械装置的耦合与匹配能力,以及降低成本等,具有广泛和迫切的需求。
基于特定形态的常规微透镜阵列,获得阵列化汇聚或发散波束这一技术方式的缺陷主要表现在以下方面:(一)因表面形貌固定的微透镜具有不可变动的光学整形性能,仅能构建特定的阵列化微聚束光场,无点扩散函数调变能力;(二)从表面形貌固定的阵列化发散微透镜仅能整形出射形态固定的图案化光场,不具备光场调变能力;(三)光束的阵列化汇聚或发散操作,分别由光汇聚或光发散微透镜阵列完成,汇聚和发散并存则需配置不同模态的光处理架构,汇聚和发散模态转换无法快速完成,适应性差;(四)调变或切换阵列化的束汇聚和束发散模态,需要通过多组级联布置的汇聚和发散微透镜阵列间的机械运动进行,响应慢、状态转换耗时长以及惯性大,需要匹配复杂的辅助驱控装置,因运动姿态的本征连续性无法执行任意的状态切入或跳变,光学变换能力极为有限,难以灵活接入光路中或与其他红外光学光电结构耦合。
近些年来,具备波束汇聚或发散的阵列化成形与调变的电控液晶微透镜技术发展迅速,为解决上述问题提供了新思路。目前已具备的主要功能包括:(一)基于图案化电极驱控的微米厚度液晶材料,可对行进光波执行可调变的阵列化汇聚或发散操作;(二)基于液晶微透镜的光束阵列化再分布,可依照预定顺序在所选定的电控状态处展开或快速切换,可接受先验知识或束变换特征的约束、干预或引导;(三)平面端面的液晶微透镜可被灵活接入光路中或与其他红外结构耦合甚至集成;(四)液晶微透镜的驱控操作可基于低功率电压信号进行,液晶器件功耗可低至微瓦级,驱控装置可小微型化甚至与液晶结构集成。目前,如何构建汇聚与发散双模一体化的红外面阵电控液晶微透镜技术,实现特定波束形态的成形与快速切换,已成为红外波束精密测量与控制技术继续发展所面临的难点问题,迫切需要新的突破。
发明内容
针对现有技术的以上缺陷或改进需求,本发明提供了一种双模一体化红外面阵电控液晶微透镜芯片,其可实现红外波束的可调变阵列化整形以及汇聚和发散模态的快速切换,易与其它红外光学光电机械结构耦合,光场适应性好。
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