[发明专利]一种分析样品中相互干扰元素真实浓度的方法

说明书

技术领域

本发明创造属于光谱分析技术领域，尤其是涉及一种利用光谱分析样品中元素真实浓度的方法。

背景技术

光谱干扰是指在原子发射光谱分析中，由于伴随物的存在所引起的分析结果系统误差的效应。伴随物是指除分析元素之外的存于样品中的所有其它成分，引起干扰的伴随物成为干扰物。在原子发射光谱分析中，干扰效应是最复杂的问题之一。

光谱干扰即分析元素信号(分析信号)与干扰物的辐射信号(干扰信号)分辨不开所引起的干扰。光谱干扰分为背景干扰和谱线重叠干扰：背景干扰是指由连续发射形成的带状光谱叠加在分析线上形成的干扰，其主要来源有电子一离子复合辐射、分子辐射、杂散光等，基体含量越高，背景干扰越严重；谱线重叠干扰是指由于谱线宽度和狭缝宽度变宽引起的谱线重叠，其主要包括直接重叠干扰和分析线变宽引起的线翼重叠干扰。

由于每个元素有成百上千条谱线，即：δE＝E₂-E₁＝hν＝hc/λ，其中λ为谱线的波长，h为普朗克常数，C为光速，而光学部件光栅的分辨率不足以将不同元素波长接近的谱线分辨开，因此在光谱分析过程中势必会存在共存元素的光谱干扰。

现有技术中，光谱干扰一般采用干扰系数校正法，即通过曲线拟合干扰元素对分析元素干扰程度的干扰系数(k系数)，进而对分析元素进行光谱干扰校正的校正技术。干扰系数校正法可校正各类干扰信号，操作简便。干扰系数校正法须事先清楚干扰物的浓度和干扰体系的组成，并要求仪器性能比较稳定。

干扰系数校正法的校正模型有以下几种：

(1)加法浓度校正模型(AI)：

强度加法模型用于解决谱线重叠引起的干扰，其模型为：

C＝AI³+BI²+CI+D+Σ(k₁C_i²+k₂C_i)

其中，C为被干扰元素的浓度，I为被干扰元素的强度，C_i为干扰元素的浓度。

(2)乘法强度校正模型：

乘法强度模型用于解决谱线重叠引起的干扰，其模型为：

C＝(AI³+BI²+CI+D)(1+(k₁I_i²+k₂I_i))

其中，C为被干扰元素的浓度，I为被干扰元素的强度，I_i为干扰元素

的强度。

(3)谱线重叠校正模型：

一个元素被其它的元素干扰，拟合时采取净强度，因此I_i(净)＝I_i+k_j*I_ij，

其模型为：

C＝A(I_i+k_j*I_ij)³+B(I_i+k_j*I_ij)²+C(I_i+k_j*I_ij)+D

其中,C被干扰元素的浓度，I_ij干扰元素的强度；K_j为干扰系数，I_i为

测量强度。

(4)谱线自吸校正模型：

一个元素被其它的元素干扰，拟合时采取净强度，因此

I_i(净)＝I_i(1+(k_j*I_ij)，其模型为：

C＝A[I_i(1+k_j*I_ij)]³+B[Ii(1+k_j*I_ij)]²+C[I_i(1+k_j*I_ij)]+D

其中，C被干扰元素的浓度，I_ij干扰元素的浓度，k_j为干扰系数，I_i为测量强度。

上述几种校正模型存在缺点：