[发明专利]校正模体、位置和放射源信息校正方法及装置

权利要求书

1.一种校正模体，其特征在于，包括设置于放射源和成像面板之间的模体本体和设置在所述模体本体中的探测单元，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线信息，并通过位于所述模体本体中的支撑装置设置于所述模体本体上，所述模体本体包括平行设置的切面，所述支撑装置的下端安装有所述探测单元，并固定于所述切面上，所述切面之间的距离大于等于第一交点到第一切面之间的距离，所述第一交点为所述模体本体上距离所述放射源最远的点与所述放射源所在的几何坐标位置之间的连线，与所述模体本体的表面的交点，所述第一切面为所述模体本体中距离所述放射源最远的点所在的与水平面垂直的垂直面。

2.根据权利要求1所述的校正模体，其特征在于，所述探测单元包括电离室、半导体探头或者热释光片，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线的信息，包括：

通过电离室、半导体探头或者热释光片的几何位置信息测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置，并通过所述电离室、半导体探头或者热释光片测量所述放射源发射的射线信息。

3.根据权利要求1所述的校正模体，其特征在于，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线的信息，包括：

采用第一组探测单元的几何位置信息测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息；

采用第二组探测单元测量所述放射源发射的射线的信息，所述第二组探测单元包括电离室、半导体探头或者热释光片。

4.一种位置校正方法，其特征在于，包括：

采用权利要求1-3任一项所述的校正模体进行射线成像；

获取所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息；

根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。

5.根据权利要求4所述的位置校正方法，其特征在于，所述获取成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，包括：获取所述校正模体中探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置信息。

6.根据权利要求5所述的位置校正方法，其特征在于，所述根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正，包括：

将所获取的探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置与目标位置进行比较，得到几何位置校正信息；

采用所得到的几何位置校正信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。

7.一种放射源信息校正方法，其特征在于，包括：

采用权利要求1-3任一项所述的校正模体探测所述放射源的射线信息，所述放射源的射线信息包括放射源发射的射线的强度或者剂量；

根据探测得到的所述放射源的射线信息与所述放射源的目标射线信息，对所述放射源发出的射线进行校正，直至所述放射源的射线信息为所述放射源的目标射线信息。

8.根据权利要求7所述的放射源信息校正方法，其特征在于，所述采用权利要求1-3任一项所述的校正模体探测所述放射源的射线信息，包括：利用所述校正模体中的探测单元探测所述放射源的射线信息。

9.一种位置校正装置，其特征在于，包括：

第一获取单元，适于采用权利要求1-3任一项所述的校正模体获取所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息；

第一校正单元，适于根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。

10.根据权利要求9所述的位置校正装置，其特征在于，所述第一获取单元适于获取所述校正模体中探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置信息。

11.根据权利要求10所述的位置校正装置，其特征在于，所述第一校正单元包括：

比较子单元，适于将所获取的探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置与目标位置进行比较，得到几何位置校正信息；

校正子单元，适于采用所得到的几何位置校正信息对所述成像面板的几何位置进行校正。