[发明专利]校正模体、位置和放射源信息校正方法及装置

说明书

技术领域

本发明涉及医疗技术领域，特别是涉及一种校正模体及通过该校正模体进行位置和放射源的信息校正的方法及装置。

背景技术

模体，是具有特定功能的或作为一个独立结构域一部分的相邻的二级结构的聚合体。利用放射源发射的射线照射模体，并通过设置在模体之后的成像面板上射线的不同程度的衰减所形成的图像，以确定在实际的病人治疗中施加到病人特定组织上的辐射剂量，是医学领域中对于模体的普遍应用。

现有技术中一般采用在模体中安装吸收球体的方式，来获取放射源发出的射线的信息。但是，现有技术中的模体无法同时对放射源和探测单元之间的位置和放射源发射的射线信息进行校正。

发明内容

本发明实施例解决的是如何采用模体本体同时对放射源和探测单元之间的位置以及放射源的射线信息同时进行校正。

为解决上述问题，本发明实施例提供了一种校正模体，所述校正模体包括：

设置于所述放射源和成像面板之间的模体本体和设置在所述模体本体中的探测单元，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线信息，并通过位于所述模体本体中的支撑装置设置于所述模体本体上。

可选地，所述模体本体包括平行设置的切面，所述支撑装置的下端安装有所述探测单元，并固定于所述切面上。

可选地，所述切面之间的距离大于等于第一交点到第一切面之间的距离，所述第一交点为所述模体本体上距离所述放射源最远的点与所述放射源所在的几何坐标位置之间的连线，与所述模体本体的表面的交点，所述第一切面为所述模体本体中距离所述放射源最远的点所在的与所述水平面垂直的垂直面。

可选地，所述探测单元包括电离室、半导体探头或者热释光片，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线的信息，包括：

通过电离室、半导体探头或者热释光片的几何位置信息测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置，并通过所述电离室、半导体探头或者热释光片测量所述放射源发射的射线信息。

可选地，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线的信息，包括：

采用第一组探测单元的几何位置信息测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息；

采用第二组探测单元测量所述放射源发射的射线的信息，所述第二组探测单元包括电离室、半导体探头或者热释光片。

本发明实施例还提供了一种位置校正方法，所述方法包括：

采用上述的校正模体进行射线成像；

获取所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息；

根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。

可选地，所述获取成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，包括：获取所述校正模体中探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置信息。

可选地，所述根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正，包括：

将所获取的探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置与目标位置进行比较，得到几何位置校正信息；

采用所得到的几何位置校正信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。

本发明实施例还提供了一种放射源信息校正方法，所述方法包括：

采用上述的校正模体探测所述放射源的射线信息，所述放射源的射线信息包括放射源发射的射线的强度或者剂量；

根据探测得到的所述放射源的射线信息与所述放射源的目标射线信息，对所述放射源发出的射线进行校正，直至所述放射源的射线信息为所述放射源的目标射线信息。

可选地，所述采用上述的校正模体探测所述放射源的射线信息，包括：利用所述校正模体中的探测单元探测所述放射源的射线信息。

本发明实施例还提供了一种位置校正装置，其特征在于，包括：

第一获取单元，适于采用上述的校正模体获取所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息；

第一校正单元，适于根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。

可选地，所述第一获取单元适于获取所述校正模体中探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置信息。

可选地，所述第一校正单元包括：