[发明专利]一种掩模板在审

专利信息
申请号: 201410586860.8 申请日: 2014-10-28
公开(公告)号: CN104407496A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 王德帅;王亮 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F1/54 分类号: G03F1/54
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 模板
【权利要求书】:

1.一种掩模板,包括透明基板,所述透明基板上设有半透膜层和挡光层以形成不透光区域、半透光区域和全透光区域,其特征在于,所述透明基板上还设有位于所述全透光区域周边的消光膜层、以减弱所述全透光区域周边透过的紫外光的强度。

2.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述消光膜层位于所述半透膜层背离所述透明基板的一侧。

3.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述消光膜层为用于将透过其厚度方向的紫外光的相位延迟半个波长的反相膜。

4.根据权利要求3所述的掩模板,其特征在于,所述消光膜层为二分之一波片。

5.根据权利要求4所述的掩模板,其特征在于,所述消光膜层通过粘结层贴附于所述半透膜层上。

6.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述消光膜层为遮光层。

7.根据权利要求6所述的掩模板,其特征在于,所述遮光层为金属铬膜层。

8.根据权利要求1~7任一项所述的掩模板,其特征在于,所述消光膜层为封闭环形结构,且沿平行于透明基板的方向,所述环形消光膜层的内侧边与外侧边之间的间距为1~2um。

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