[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上且与所述衬底基板直接接触的膜层图形，其特征在于，所述衬底基板表面设置有沟槽，所述膜层图形设置于所述沟槽内。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述膜层图形填平所述沟槽。

3.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为薄膜晶体管阵列基板，所述膜层图形为栅极图形或有源层图形。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述膜层图形为栅极图形，所述显示基板具体包括：

衬底基板，以及依次设置于所述衬底基板上的栅极、栅绝缘层、有源层、源漏极、钝化层和像素电极，其中，所述衬底基板表面设置有沟槽，所述栅极图形设置于所述沟槽内。

5.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述衬底基板为玻璃基板。

6.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板的表面形成沟槽；

在所述沟槽内形成填平所述沟槽的膜层图形。

7.根据权利要求6所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述在所述衬底基板的表面形成沟槽的步骤包括：

在所述衬底基板的表面涂敷光刻胶；

对所述光刻胶进行曝光和显影，形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域，所述光刻胶去除区域对应所述膜层图形区域；

采用刻蚀工艺刻蚀所述光刻胶完全去除区域的衬底基板，形成沟槽，所述沟槽的尺寸与后续需要形成的膜层图形的尺寸相同；

去除所述光刻胶保留区域的光刻胶。

8.根据权利要求6所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述沟槽内形成填平所述沟槽的膜层图形的步骤包括：

在形成有所述沟槽的衬底基板上形成一整层膜层，其中，形成于所述沟槽之上的膜层的厚度高于所述沟槽的深度；

采用刻蚀工艺刻蚀掉所述沟槽之外的膜层，形成位于所述沟槽内且填平所述沟槽的膜层图形。

9.根据权利要求8所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述整层膜层的厚度至少是所述沟槽的深度的1.2倍。

10.根据权利要求6-9任一项所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述显示基板为薄膜晶体管阵列基板，所述膜层图形为栅极图形或有源层图形。

11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的显示基板。