[发明专利]电容触摸屏及其制造方法在审
| 申请号： | 201410598383.7 | 申请日： | 2014-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN104331201A | 公开（公告）日： | 2015-02-04 |
| 发明（设计）人： | 谢涛峰;张雷;吴玲艳;刘洋 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 230011 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电容 触摸屏 及其 制造 方法 | ||
1.一种电容触摸屏，包括形成在基板上的白色光阻层和金属触控层的引线，其特征在于，还包括形成在所述白色光阻层和所述金属触控层的引线之间的反射层，所述反射层在所述基板上的投影覆盖所述金属触控层的引线在所述基板上的投影。
2.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征在于，所述反射层的内侧边缘在所述基板上的投影与所述金属触控层的引线的内侧边缘在所述基板上的投影之间的距离不小于0.5mm。
3.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征在于，所述白色光阻层在所述基板上的投影覆盖所述反射层在所述基板上的投影。
4.根据权利要求3所述的电容触摸屏，其特征在于，所述白色光阻层的内侧边缘在所述基板上的投影与所述反射层的内侧边缘在所述基板上的投影之间的距离为10-20μm。
5.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征在于，所述反射层由非导电的材料制成。
6.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征在于，还包括绝缘层，形成在具有所述白色光阻层和所述反射层的所述基板表面上。
7.根据权利要求6所述的电容触摸屏，其特征在于，所述反射层由导电金属材料制成。
8.一种触控显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的电容触摸屏。
9.一种电容触摸屏的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：
在基板上形成白色光阻材料层，通过一次构图工艺，形成包含白色光阻层的图形；
在形成包含白色光阻层的图形的所述基板上形成反射材料层，通过一次构图工艺，形成包含反射层的图形；所述反射层形成在所述白色光阻层上；
在形成包含反射层的图形的所述基板上形成金属触控层的引线，所述反射层在所述基板上的投影覆盖所述金属触控层的引线在所述基板上的投影。
10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述在形成包含反射层的图形的所述基板上形成金属触控层的引线具体包括：在具有所述白色光阻层和所述反射层的所述基板表面上形成金属触控材料层；
通过一次构图工艺，形成包含金属触控层的引线的图形。
11.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述在形成包含反射层的图形的所述基板上形成金属触控层的引线具体包括：
在具有所述白色光阻层和所述反射层的所述基板表面上形成绝缘层；
在所述绝缘层上形成金属触控材料层；
通过一次构图工艺，形成包含金属触控层的引线的图形。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司，未经合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
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