[发明专利]电容触摸屏及其制造方法在审
申请号: | 201410598383.7 | 申请日: | 2014-10-29 |
公开(公告)号: | CN104331201A | 公开(公告)日: | 2015-02-04 |
发明(设计)人: | 谢涛峰;张雷;吴玲艳;刘洋 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 230011 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电容 触摸屏 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及触摸屏领域,尤其涉及电容触摸屏及其制造方法。
背景技术
目前,OGS(One Glass Solution,单片玻璃式)电容触摸屏技术较目前主流的G/G(glass/glass,玻璃/玻璃)电容触摸屏技术具有结构简单、轻、薄、透光性好等优点;由于省掉一片玻璃基板以及一道贴合工序,OGS电容触摸屏还具有生产成本低、产品良率高等优点。因此,OGS电容触摸屏具有广阔的市场前景。
OGS电容触摸屏包括位于屏幕中心的显示区域和位于屏幕边缘并环绕显示区域的非显示区域。OGS电容触摸屏在制造过程中,会在位于屏幕最外层的基板上的非显示区域形成黑色光阻,以遮蔽形成在黑色光阻层下方、位于屏幕内层的金属触控层引线。出于产品美观的考虑,市场上还出现了一种白色光阻替代黑色光阻的OGS电容触摸屏。
但是,由于白色光阻的透光率较高,即便是将光阻层制作的非常厚也无法使透光率达到理想值,造成了用户透过白色光阻看到金属触控层引线,无法实现遮蔽金属触控层引线的作用。
发明内容
本发明的实施例提供一种电容触摸屏及制造方法,解决了现有的电容触摸屏中的白色光阻透光率较高无法遮蔽金属触控层引线的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
一种电容触摸屏,包括形成在基板上的白色光阻层和金属触控层的引线,还包括形成在所述白色光阻层和所述金属触控层的引线之间的反射层,所述反射层在所述基板上的投影覆盖所述金属触控层的引线在所述基板上的投影。
优选地,所述反射层的内侧边缘在所述基板上的投影与所述金属触控层的引线的内侧边缘在所述基板上的投影之间的距离不小于0.5mm。
具体地,所述白色光阻层在所述基板上的投影覆盖所述反射层在所述基板上的投影。
更进一步地,所述白色光阻层的内侧边缘在所述基板上的投影与所述反射层的内侧边缘在所述基板上的投影之间的距离为10-20μm。
优选地,所述反射层由非导电的材料制成。
可选地,所述电容触摸屏,还包括绝缘层,形成在具有所述白色光阻层和所述反射层的所述基板表面上。
更进一步地,所述反射层由导电金属材料制成。
一种触控显示装置,其特征在于,包括上述电容触摸屏。
一种电容触摸屏的制造方法,包括如下步骤:
在基板上形成白色光阻材料层,通过一次构图工艺,形成包含白色光阻层的图形;
在形成包含白色光阻层的图形的所述基板上形成反射材料层,通过一次构图工艺,形成包含反射层的图形;所述反射层形成在所述白色光阻层上;
在形成包含反射层的图形的所述基板上形成金属触控层的引线,所述反射层在所述基板上的投影覆盖所述金属触控层的引线在所述基板上的投影。
更进一步地,所述的制造方法,在所述形成包含反射层的图形的所述基板上形成金属触控层的引线具体包括:
在具有所述白色光阻层和所述反射层的所述基板表面上形成金属触控材料层;
通过一次构图工艺,形成包含金属触控层的引线的图形。
可选地,所述的制造方法,在所述形成包含反射层的图形的所述基板上形成金属触控层的引线具体包括:
在具有所述白色光阻层和所述反射层的所述基板表面上形成绝缘层;
在所述绝缘层上形成金属触控材料层;
通过一次构图工艺,形成包含金属触控层的引线的图形。
本发明实施例提供的电容触摸屏及制造方法,通过在白色光阻层上和金属触控层的引线之间设置反射层,且反射层在基板上的投影覆盖金属触控层的引线在基板上的投影,当穿过金属触控层的引线的光线到达反射层时,被反射层反射,不能经由白色光阻层射出屏幕,使得用户不能透过白色光阻层和反射层看到金属触控层的引线,从而达到了遮蔽金属触控层引线的目的。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1A-1C为本发明实施例2中提供的电容触摸屏的制造方法中各步骤形成结构的剖面结构示意图;
图2A-2D为本发明实施例3中提供的电容触摸屏的制造方法中各步骤形成结构的剖面结构示意图。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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