[发明专利]一种双银LOW-E镀膜玻璃

说明书

技术领域：

本发明涉及一种双银LOW-E镀膜玻璃。

背景技术：

LOW-E玻璃，是一种新型高端的低辐射玻璃，是在玻璃基材表面镀制包括银层在内的多层金属及其它化合物组成的膜系产品。但现有LOW-E玻璃，其膜层粘结力较差，机械强度不佳，容易出现脱膜、氧化等质量缺陷。同时，Ag的使用量较多，生产成本较高。

故有必要对现有的LOW-E玻璃作出改进，以提供一种具有较好粘结性、较佳机械强度、且可减少Ag的使用量、降低生产成本的LOW-E镀膜玻璃。

发明内容：

本发明的目的在于提供一种双银LOW-E镀膜玻璃，其具有较好的粘结性和较佳机械强度，且可减少Ag的使用量，降低生产成本。

一种双银LOW-E镀膜玻璃，包括玻璃基材，所述玻璃基材的上表面由下而上依次设有Si_xN_y基膜层、第一TiO_x膜层、第一NiCr阻挡层、第一Cu介质层、第一Ag层、第二NiCr阻挡层、第一ZnSnO₃膜层、第三NiCr阻挡层、第二Cu介质层、第二Ag层、第四NiCr阻挡层、第二ZnSnO₃膜层、第二TiO_x膜层、以及Si_xN_y顶膜层。

本发明可通过如下方案进行改进：

所述Si_xN_y基膜层的厚度为15～30nm，所述Si_xN_y顶膜层的厚度为25～35nm。

所述第一TiO_x膜层的厚度为25～35nm，第二TiO_x膜层的厚度为15～25nm。

所述第一NiCr阻挡层的厚度为2～10nm，第二NiCr阻挡层的厚度为2～8nm，第三NiCr阻挡层的厚度为8～15nm，第四NiCr阻挡层的厚度为1～10nm。

所述第一Cu介质层和第二Cu介质层的厚度为5～10nm。

所述第一Ag层和第二Ag层的厚度为1～2nm。

所述第一ZnSnO₃膜层和第二ZnSnO₃膜层为15～25nm。

所述Si_xN_y基膜层、所述Si_xN_y顶膜层为Si₃N₄保护层。

本发明具有如下优点：1、利用Si_xN_y作为基膜层和顶膜层，使膜层具有较好的粘结性和较佳机械强度；同时，利用TiO_x提高玻璃的透光率，第一Ag层和第二Ag层的底部，均利用Cu作为阻挡层，既可减少Ag的使用量，又能保证膜层的电导率不变，在保证膜系的性能不变的前提，降低了生产成本。2、本玻璃透过率≥50％，辐射率≤0.6，反射率≤15，遮阳系数SC≤0.40；本玻璃颜色显灰色，通过色度仪可以测得如下颜色坐标值：a*＝-2.5～-3，b*＝-3.5～-5，光学性能良好。

附图说明：

图1为本发明结构剖视图。

具体实施方式：

如图所示，一种双银LOW-E镀膜玻璃，包括玻璃基材1，所述玻璃基材1的上表面由下而上依次设有Si_xN_y基膜层2、第一TiO_x膜层3、第一NiCr阻挡层4、第一Cu介质层5、第一Ag层6、第二NiCr阻挡层7、第一ZnSnO₃膜层8、第三NiCr阻挡层9、第二Cu介质层10、第二Ag层11、第四NiCr阻挡层12、第二ZnSnO₃膜层13、第二TiO_x膜层14、以及Si_xN_y顶膜层15。

进一步地，所述Si_xN_y基膜层2的厚度为15～30nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源、氩气作为溅射气体、氮气作反应气体溅射硅铝靶(硅铝质量百分比92:8)制备而成，其中，氩氮比为(400SCCM～420SCCM)：(450SCCM～500SCCM)，氩氮比是该膜层的核心，决定了成膜的质量。